[發(fā)明專利]一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)以及核微孔膜的生產(chǎn)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010593217.X
• 申請(qǐng)日: 2010-12-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102059058A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔清臣;凌紅旗;晏光明;黃海龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中山國(guó)安火炬科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): B01D67/00
• 分類號(hào): B01D67/00
• 代理公司: 中山市漢通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44255
• 代理人: 田子榮

1.一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)，包括一個(gè)用于形成第一核微孔膜的第一膜層，在該第一膜層一面上認(rèn)為不需要微孔的位置涂布有第一防護(hù)層，在該第一膜層的另一面復(fù)合保護(hù)膜層，其特征在于：在保護(hù)膜層上相對(duì)與第一膜層復(fù)合面的另一面復(fù)合有一個(gè)用于形成第二核微孔膜的第二膜層，在該第二膜層相對(duì)與保護(hù)膜層復(fù)合面的另一面上認(rèn)為不需要微孔的位置涂布有第二防護(hù)層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的第一膜層、第二膜層是在涂布離型層后通過(guò)黏合劑與保護(hù)膜層結(jié)合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的第一膜層、第二膜層和保護(hù)膜層為PET膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)，其特征在于：防護(hù)層采用抗酸堿蝕刻和防輻照材料制作。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)，其特征在于：防護(hù)層是在抗酸堿蝕刻材料中添加有能衰減高能粒子能量的金屬或者非金屬材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于核微孔膜生產(chǎn)過(guò)程的防護(hù)結(jié)構(gòu)，其特征在于：防護(hù)層采用抗酸堿蝕刻材料制作。

7.一種使用權(quán)利要求1～3所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的核微孔膜生產(chǎn)方法，其特征在于步驟如下：

(一)涂布防護(hù)層(成像)：在第一膜層和第二膜層的一面認(rèn)為不需要微孔的位置分別涂布防護(hù)層(成像)，烘干。

(二)涂布離型層和黏合劑：在第一膜層和第二膜層的沒(méi)有涂布防護(hù)層的一面(非成像面)分別依次涂布離型層和黏合劑。

(三)兩次復(fù)合：將保護(hù)膜層的兩面分別與第一和第二膜層上的離型層通過(guò)黏合劑黏合。

(四)輻照(轟擊)：調(diào)整輻照能量強(qiáng)度，達(dá)到可以分別穿透第一和第二膜層的強(qiáng)度，將復(fù)合后的防護(hù)結(jié)構(gòu)兩面各輻照一次。

(五)蝕刻：將防護(hù)結(jié)構(gòu)的膜在堿液(或者酸液)中蝕刻。

(六)剝離：將第一膜層和第二膜層剝離出來(lái)，即得到兩層微孔膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的核微孔膜生產(chǎn)方法，其特征在于：本方法所使用的防護(hù)層采用抗酸堿蝕刻和防輻照材料制作。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的核微孔膜生產(chǎn)方法，其特征在于：本方法所使用的防護(hù)層是在抗酸堿蝕刻材料中添加有能衰減高能粒子能量的金屬或者非金屬材料。

10.一種使用權(quán)利要求1～3所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的核微孔膜生產(chǎn)方法，其特征在于步驟如下：

(一)涂布防護(hù)層(成像)：在第一膜層和第二膜層的一面認(rèn)為不需要微孔的位置分別涂布防護(hù)層(成像)，烘干，收卷備用。

(二)涂布離型層和黏合劑：在第一膜層和第二膜層的沒(méi)有涂布防護(hù)層的一面(非成像面)分別依次涂布離型層和黏合劑。

(三)兩次復(fù)合：將保護(hù)膜層的兩面分別與第一和第二膜層上的離型層通過(guò)黏合劑黏合。

(四)輻照(轟擊)：調(diào)整輻照能量強(qiáng)度，達(dá)到可以穿透整個(gè)防護(hù)結(jié)構(gòu)厚度的強(qiáng)度，輻照一次。

(五)蝕刻：將防護(hù)結(jié)構(gòu)的膜在堿液(或者酸液)中蝕刻。

(六)剝離：將第一膜層和第二膜層剝離出來(lái)，即得到兩層微孔膜。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的核微孔膜生產(chǎn)方法，其特征在于：本方法所使用的防護(hù)層采用抗酸堿蝕刻材料。