[發(fā)明專利]連續(xù)直寫納米粒子溶液的掃描探針及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010591933.4 | 申請日: | 2010-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN102565460A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭倍 | 申請(專利權(quán))人: | 彭倍 |
| 主分類號: | G01Q60/38 | 分類號: | G01Q60/38;B81B1/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 成都立信專利事務(wù)所有限公司 51100 | 代理人: | 江曉萍 |
| 地址: | 611731 四川省成都市高新區(qū)西源大道*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 連續(xù) 納米 粒子 溶液 掃描 探針 及其 制造 方法 | ||
1.連續(xù)直寫納米粒子溶液的掃描探針,包括有探針針尖和懸臂梁的硅基底,位于探針針尖周邊與探針針尖之間有環(huán)形針尖微通道從而與探針針尖形成火山口式結(jié)構(gòu)的環(huán)形外殼,探針針尖頂端伸出環(huán)形外殼外,懸臂梁遠離探針針尖的一端上有貯液槽,位于懸臂梁內(nèi)的輸送微通道的兩端分別與環(huán)形針尖微通道、貯液槽連通,探針針尖頂端直徑為16~22nm。
2.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)直寫納米粒子溶液的掃描探針,其特征在于探針針尖頂端伸出環(huán)形外殼0.8~1.2μm,環(huán)形外殼壁厚480~520nm,環(huán)形針尖微通道間隙為480~520nm,輸送微通道的直徑為0.8~1.2mm。
3.如權(quán)利要求2所述的連續(xù)直寫納米粒子溶液的掃描探針,其特征在于探針針尖頂端直徑為20nm且伸出環(huán)形外殼1μm,環(huán)形外殼壁厚500nm,環(huán)形針尖微通道間隙為500nm,輸送微通道的直徑為1mm。
4.如權(quán)利要求1~3之一所述的連續(xù)直寫納米粒子溶液的掃描探針,其特征在于貯液槽形狀為梯形。
5.權(quán)利要求1所述的連續(xù)直寫納米粒子溶液的掃描探針的制造方法,其特征在于該方法包括如下步驟:
1)在硅基底上利用KOH溶液刻蝕出掃描探針針尖原型,再氧化針尖,刻蝕氧化層使針尖銳化,使針尖直徑達到16—22nm;
2)在硅基底上依次分別沉積:
(1)0.25—0.30mm氮化硅薄膜,并刻蝕一個開口使其與背面貯液槽連通;
(2)0.4—0.5mm二氧化硅犧牲層;
(3)0.25—0.5mm氮化硅薄膜;
?????3)在掃描探針左側(cè)部分刻蝕出微通道開口,然后利用CF4溶液刻蝕氧化硅犧牲層,形成微通道;
?????4)在微通道開口兩端沉積一層0.25~0.35μm的氮化硅薄膜,將微通道開口密封;
?????5)刻蝕微通道開口處多余氮化硅薄膜,在KOH溶液中,利用各向異性刻蝕技術(shù)在硅基底背面刻蝕出貯液槽,即成。
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G01Q 掃描探針技術(shù)或設(shè)備;掃描探針技術(shù)的應(yīng)用,例如,掃描探針顯微術(shù)[SPM]
G01Q60-00 特殊類型的SPM [掃描探針顯微術(shù)]或其設(shè)備;其基本組成
G01Q60-02 .多個類型SPM,即包括兩種或更多種SPM技術(shù)
G01Q60-10 .STM [掃描隧道顯微術(shù)]或其設(shè)備,例如STM探針
G01Q60-18 .SNOM [掃描近場光學(xué)顯微術(shù)]或其設(shè)備,例如,SNOM探針
G01Q60-24 .AFM [原子力顯微術(shù)]或其設(shè)備,例如AFM探針
G01Q60-44 .SICM [掃描離子電導(dǎo)顯微術(shù)]或其設(shè)備,例如SICM探針





