[發(fā)明專利]一種仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010590233.3
• 申請日: 2010-12-07
• 公開（公告）號: CN102001866A
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳樹波;陳佩娟
• 申請（專利權(quán)）人: 陳佩娟
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 汕頭市高科專利事務(wù)所 44103
• 代理人: 王少明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷的制造方法，尤其涉及具有石紋外觀效果的陶瓷制品的制造方法。

背景技術(shù)

具有石頭紋理效果的陶瓷制品由于具有特別的觀賞效果，作為花瓶、擺設(shè)、用具或者收藏品受到消費者的青睞，具有廣闊的市場空間。因此，它成為陶瓷制品裝飾的一個發(fā)展方向。

中國發(fā)明專利申請公開說明書CN1218020A提出了一種在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，首先提供一高密度、粘度小、高稠度的底釉，然后將比重小、粘度大、低稠度的面釉緩緩倒入底釉中，由于兩種釉比重及粘度的落差，面釉在底釉中未立即分解，并漂浮于底釉的表層，接著劃動釉面使其產(chǎn)生大理石紋，然后將素?zé)卟糠纸谟灾袧L轉(zhuǎn)一圈，使釉彩覆于胚上，完成上釉程序后在高溫中燒制即產(chǎn)生大理石紋。該方法操作難以控制，再現(xiàn)性較差，成品率低，并且難以形成不能形成石頭的自然色斑。

CN1241497A、CN1424190A、CN1546294A、CN1727147A、CN1887558A以及CN101585210A公開的具有石紋表層的陶瓷是采用機(jī)械方法將一種或多種色漿分散在陶瓷素坯表面，燒成后陶瓷表面顯示多種色漿顏色來體現(xiàn)石頭斑紋。但是這些方法操作復(fù)雜，并且由于斑紋過于規(guī)整，仿石效果較差。

CN1923747A認(rèn)為，將色素包裹在熔塊中，燒成后可形成仿石材圖案釉面陶瓷，但由于色素斑塊過小，出現(xiàn)石材圖案與天然石頭差距較大。

CN101066890A認(rèn)為，在陶瓷泥坯上施一層底釉，制備底釉坯，將底釉坯表面沾取含有氣泡的色釉，由于色釉漿泡破滅形成大理石花紋，這種方法適應(yīng)性能強(qiáng)，能夠適用于器型復(fù)雜的陶瓷產(chǎn)品，但色斑單一，陶瓷產(chǎn)品表面平整度較差，與自然石頭紋理差距較遠(yuǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種操作簡易，在燒制過程釉層出現(xiàn)窯變而形成仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋的陶瓷制造方法。

該方法包括以下步驟：

A.按重量百分比配制含二氧化錫11～13％，二氧化鋯78～82％，氧化鎳4～6％，氧化鈷2～4％的第一色基材料，按第一色基材料重量的50～60％加水研磨，按第一色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第一色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第一釉漿；

B.按重量百分比配制含氧化鈷14～16％，氧化鎳9～11％，三氧化二鉻14～16％，氧化鐵18～22％，二氧化錳38～42％的第二色基材料，按第二色基材料重量的50～60％加水研磨，按第二色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第二色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第二釉漿；

C.按重量百分比配制含二氧化錫11～13％，二氧化鋯68～72％，氧化鎳2～4％，氧化銻9～11％的第三色基材料，按第三色基材料重量的50～60％加水研磨，按第三色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第三色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第三釉漿；

D.按重量百分比配制含三氧化二硼38～42％，氧化鈣28～32％，氧化鍶14～16％，氧化鋅14～16％的第四色基材料，按第四色基材料重量的50～60％加水研磨，按第四色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第四色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第四釉漿；

E.在陶瓷坯體上施第一釉漿，自然干燥0.5～1小時后施第二釉漿，再自然干燥1～1.5小時后施第三釉漿，再自然干燥1～1.5小時后施第四釉漿，第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿和第四釉漿的用量之比為1∶0.55～0.65∶0.35～0.45∶0.14～0.18；

F.施釉后的陶瓷坯體進(jìn)行燒制：在200～800℃時每小時升溫180～200℃，800～1100℃時每小時升溫90～100℃，1100～1260℃時每小時升溫50～60℃，到達(dá)1260～1270℃時停火降溫，冷卻后陶瓷坯體成為仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷制品。

本發(fā)明中，透明基礎(chǔ)釉是陶瓷工業(yè)中使用的普通透明釉，或者成為熔塊。

在步驟A中，優(yōu)選的第一色基材料的重量百分含量為二氧化錫12％，二氧化鋯80％，氧化鎳5％，氧化鈷3％。

在步驟B中，優(yōu)選的第二色基材料重量百分含量為氧化鈷15％，氧化鎳10％，三氧化二鉻15％，氧化鐵20％，二氧化錳40％。

在步驟C中，優(yōu)選的第三色基材料的重量百分含量為二氧化錫10％，二氧化鋯70％，氧化鎳3％，氧化銻10％。

在步驟D中，優(yōu)選的第四色基材料的重量百分含量為三氧化二硼40％，氧化鈣30％，氧化鍶15％，氧化鋅15％。