[發明專利]用于蒸發的掩模以及用于制造該掩模的方法和裝置

有效

• 申請號: 201010589194.5
• 申請日: 2010-12-10
• 公開（公告）號: CN102094167A
• 公開（公告）日: 2011-06-15
• 發明（設計）人: 金俊亨;曹永根;申義信;金鐘憲;崔丞鎬;盧喆來;曹昌睦;樸宰奭
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;B23K26/24
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;李娜娜

技術領域

本發明的方面涉及一種包括第一分離掩模和第二分離掩模的用于蒸發的掩模以及一種用于制造該掩模的方法和裝置。

背景技術

通常，有機發光二極管(OLED)包括設置在第一電極(即，陽極)和第二電極(即，陰極)之間的有機層。第一電極是由例如氧化銦錫(ITO)形成的透明電極，第二電極由具有低逸出功的金屬(例如，Ca、Li或Al)形成。當向OLED施加正向電壓時，從陽極發射的空穴與從陰極發射的電子組合，以形成激子，在激子從激發態躍遷至基態的同時，發射光。

第二電極通常形成為反射光的反射電極，而第一電極通常形成為透射光的透射電極。因此，可以制造出將從有機層發射的光發射到第二電極的OLED。

這里，有機層可以通過各種方法來形成。方法之一是蒸發方法。為了通過蒸發方法制造OLED顯示裝置，將具有與要形成的薄膜相同的圖案的掩模附著到其上將形成有薄膜的表面，將用于薄膜的材料蒸發，以形成具有預定圖案的薄膜。

同時，隨著平板顯示器變得更大，這樣的掩模也變得更大。例如，在掩模的當前制造中，不能制造出與5.5G基底(1320mm×1500mm)的尺寸對應的掩模，因此，應當使用分離掩模。

通常，這樣的分離掩模如下形成：將掩模框架四等分成格子類型的子框架；并通過焊接來結合被設置為與分離的開口對應的掩模。

然而，將掩模框架等分為子框架并通過焊接將掩模結合到分離的開口的方法由于子框架而導致陰影效應。因此，難以執行均勻的蒸發。

發明內容

本發明的各方面提供了一種用于蒸發的掩模，該掩模不會由于子框架而具有陰影效應，從而可以制造更大的掩模。

根據本發明的一方面，一種用于蒸發的掩模包括第一分離掩模、第二分離掩模以及形成在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間的焊接部分。所述第一分離掩模和所述第二分離掩模通過所述焊接部分彼此結合。

所述焊接部分可以在所述焊接部分與所述第一分離掩模之間的界面周圍以及在所述焊接部分與第二分離掩模之間的界面周圍具有毛刺。所述毛刺的高度可以為大約10μm或更小。

所述第一分離掩模與所述第二分離掩模之間的間隙可以為掩模的厚度的大約10％或更小。

根據本發明的另一方面，一種制造用于蒸發的掩模的方法包括：將第一分離掩模和第二分離掩模設置在工作臺的頂表面上；使用夾具將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模固定到所述工作臺；將壓板設置在將被焊接的所述第一分離掩模和所述第二分離掩模的外圍區域上；使用激光焊接部分將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模。

設置第一分離掩模和第二分離掩模的步驟可以包括：將主基底設置在所述工作臺的所述頂表面上；將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模與所述主基底對準。

可以在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間形成間隙，所述間隙可以為所述第一分離掩模的厚度的大約10％或更小。

所述方法還可以包括：在朝向焊接方向移動的同時，利用第一輥將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺上。所述第一輥可以引導所述激光焊接部分。

在將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模之后，可以在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間形成焊接部分。所述方法還可以包括：在朝向焊接方向移動的同時，利用第二輥使所述焊接部分的頂表面平坦化。所述第二輥可以跟隨所述激光焊接部分。

從所述激光焊接部分產生的激光束輪廓可以具有多個最大峰。

根據本發明的又一方面，一種用于制造用于蒸發的掩模的裝置包括：工作臺；夾具，設置在所述工作臺上；壓板，設置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模的外圍區域上；激光焊接部分，設置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模上方。所述夾具將第一分離掩模和第二分離掩模固定到所述工作臺的頂表面。所述壓板將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺上。所述激光焊接部分將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模。

所述裝置還可以包括設置在所述工作臺與所述第一分離掩模及所述第二分離掩模之間的主基底。

從所述激光焊接部分產生的激光束輪廓可以具有多個最大峰。沒有一個最大峰會處于所述激光束輪廓的中心周圍。

所述裝置還可以包括定位在所述激光焊接部分的前面的第一輥和定位在所述激光焊接部分的后面的第二輥。所述第一輥和所述第二輥設置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模上。