[發(fā)明專(zhuān)利]一種磁控靶布?xì)饨Y(jié)構(gòu)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010585115.3
• 申請(qǐng)日: 2010-12-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102534521A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王福同;郭東民;徐剛;馮彬;安赟;佟輝;張以忱;劉定文;佟雷;楊穎
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器研制中心有限公司;中科能（青島）節(jié)能工程有限公司;南車(chē)四方車(chē)輛有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 沈陽(yáng)科苑專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于磁控濺射領(lǐng)域，具體地說(shuō)是一種磁控靶布?xì)饨Y(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

目前，真空鍍膜的方式很多，包括磁控濺射、電阻蒸發(fā)、電子束、分子束外延、電弧離子鍍等多種方式，都能夠在真空狀態(tài)下，在樣品上成膜。其中，磁控濺射是成膜的一種非常常規(guī)的工作方式，具有沉積速度快，基片低溫，低損傷等優(yōu)點(diǎn)。但是，磁控濺射的靶材利用率低，工作氣體大多是通過(guò)勻氣環(huán)引導(dǎo)到靶材表面或者是樣品表面，以達(dá)到樣品鍍膜的均勻性。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決靶材利用率低的問(wèn)題，并且能夠更有效地利用工作氣體，本發(fā)明的目的在于提供一種磁控靶布?xì)饨Y(jié)構(gòu)。該磁控靶布?xì)饨Y(jié)構(gòu)一方面將濺射氣體引導(dǎo)到靶材表面，另一方向?qū)⒎磻?yīng)氣體引導(dǎo)到樣品表面，能夠更有效地利用工作氣體，也大大提高了成膜質(zhì)量；同時(shí)還提高了靶材的利用率。

本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明包括靶座、極靴、靶材、磁鋼及屏蔽罩，其中靶座位于樣品的下方，在靶座內(nèi)設(shè)有極靴，靶座的頂部安裝有靶材，靶座及靶材外設(shè)有屏蔽罩；所述磁鋼安裝在極靴上，磁鋼的上端面沿軸向截面為斜角；在屏蔽罩與靶座之間設(shè)有濺射氣體通道，濺射氣體通過(guò)該濺射氣體通道被引導(dǎo)至靶材的上表面；在屏蔽罩的外部設(shè)有反應(yīng)氣體的進(jìn)氣管，反應(yīng)氣體通過(guò)該進(jìn)氣管被引導(dǎo)至樣品的下表面。

其中：所述磁鋼包括圍成方環(huán)的第一磁鋼及將方環(huán)分隔成兩部分的第二磁鋼，第一磁鋼內(nèi)表面的上端為倒角，第二磁鋼的頂端的兩側(cè)分別倒角，在軸向截面上，第二磁鋼頂端的兩個(gè)斜邊分別與兩側(cè)的第一磁鋼內(nèi)表面上端的斜邊相傾斜；所述磁鋼包括第一磁鋼及第二磁鋼，第一磁鋼為圓環(huán)形，其外表面為圓柱，內(nèi)表面的底端為圓柱，頂端為錐面；所述第二磁鋼位于第一磁鋼內(nèi)的中間位置，第二磁鋼的頂端為錐臺(tái)形，在軸向截面上，第二磁鋼錐臺(tái)的兩個(gè)斜邊分別與第一磁鋼錐面的兩個(gè)斜邊相傾斜；所述靶座的底部開(kāi)有進(jìn)氣口，該進(jìn)氣口的一端為進(jìn)氣端，另一端與設(shè)置在靶座內(nèi)的總管道相連，該總管道通過(guò)多個(gè)第一氣孔與濺射氣體通道連通；進(jìn)氣口為一個(gè)或多個(gè)；第一氣孔的直徑小于總管道的直徑；所述靶座的頂部設(shè)有靶座上蓋，靶材通過(guò)中間開(kāi)孔的靶材壓蓋安裝在靶座上蓋上；所述靶座的兩側(cè)分別設(shè)有固定板，每個(gè)固定板頂部的內(nèi)壁均固接有掛鉤，進(jìn)氣管安裝在掛鉤上，在進(jìn)氣管上開(kāi)有朝向樣品下表面的第二氣孔；所述靶座內(nèi)設(shè)有循環(huán)冷卻水通道。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與積極效果為：

1.本發(fā)明將濺射氣體引導(dǎo)至靶材的表面，將反應(yīng)氣體引導(dǎo)至樣品的表面，提高了工作氣體的利用率，也提高了鍍膜的均勻性。

2.本發(fā)明的第一磁鋼與第二磁鋼頂端之間的斜角拉平了磁力線，增加了靶材刻蝕區(qū)的寬度，提高了靶材的利用率。

3.本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低，收益大。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；

其中：1為樣品，2為固定板，3為掛鉤，4為進(jìn)氣管，5為屏蔽罩，6為靶材壓蓋，7為靶材，8為靶座上蓋，9為靶座，10為第一磙鋼，11為第二磁鋼，12為極靴，13為進(jìn)氣口，14為進(jìn)水口，15為第一氣孔，16為濺射氣體通道，17為第二氣孔。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述。