[發明專利]單晶圓干燥裝置及方法

有效

• 申請號: 201010582195.7
• 申請日: 2010-12-06
• 公開（公告）號: CN102148133A
• 公開（公告）日: 2011-08-10
• 發明（設計）人: 張曉紅;吳儀;趙宏宇;王銳廷
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/02;F26B3/02
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種單晶圓干燥裝置，包括：工藝腔體(7)和設置在所述工藝腔體(7)中的晶圓支撐(20)，其特征在于，還包括：一端連接于所述工藝腔體(7)外壁上的進氣管(6)和連接在所述進氣管(6)上的第一氮氣輸入管路(3)，所述進氣管(6)的另一端與用于裝載異丙酮的蒸汽腔體(2)連接，所述蒸汽腔體(2)內設有加熱裝置(1)，所述蒸汽腔體(2)出口和所述第一氮氣輸入管路(3)內均設有氣體質量流量計。

2.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，還包括：伸入所述工藝腔體(7)的第二氮氣輸入管路(13)。

3.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述進氣管(6)外壁設有保溫層(5)。

4.如權利要求3所述的干燥裝置，其特征在于，所述進氣管(6)上設有氣泵。

5.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述裝置還包括：去靜電裝置(16)，所述去靜電裝置(16)設置于所述工藝腔體(7)外，與所述工藝腔體(7)外壁相連；或設置于所述工藝腔體(7)內。

6.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述裝置還設有排氣管(18)，設置于所述工藝腔體(7)外壁，在所述排氣管(18)上設有排氣冷卻盤管(19)。

7.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述工藝腔體(7)內設有異丙酮冷卻盤管(10)，并在所述工藝腔體(7)內低于所述異丙酮冷卻盤管(10)處設有異丙酮回收盤(9)，所述異丙酮回收盤(9)底端設有異丙酮回收管(14)。

8.如權利要求7所述的干燥裝置，其特征在于，所述裝置還包括工藝液體輸入管(11)，所述工藝液體輸入管(11)伸入所述工藝腔體(7)內，所述工藝腔體(7)內所述異丙酮回收盤(9)和所述晶圓支撐(20)之間設有工藝液體回收盤(8)，所述工藝液體回收盤(8)底端設有工藝液體回收管(15)。

9.一種基于如權利要求1-8所述的干燥裝置的干燥方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：在進行晶圓的清洗工藝后，使晶圓支撐裝置(20)帶動晶圓旋轉，直至晶圓上表面液膜達到設定厚度，通過第一氮氣輸入管路(3)輸入氮氣，并經進氣管(6)進入工藝腔體(7)，直至氮氣已充滿整個工藝腔體(7)；

S2：啟動加熱裝置(1)，產生異丙酮蒸汽，與第一氮氣輸入管路(3)輸入的氮氣一同進入工藝腔體(7)，使晶圓上表面的液膜蒸發。

10.如權利要求9所述的干燥方法，其特征在于，步驟S2中，啟動加熱裝置(1)后通過第二氮氣輸入管路(13)輸入熱氮氣。