[發明專利]附載箔銅箔及其制造方法有效
| 申請號: | 201010572055.1 | 申請日: | 2010-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN102452197A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發明(設計)人: | 陳友忠;羅一玲;李鴻坤;程子萍 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號: | B32B15/01 | 分類號: | B32B15/01;C25D1/04;C25D3/38 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 附載 銅箔 及其 制造 方法 | ||
1.一種附載箔銅箔,其具有兩層式結構,包括:
載箔,包含不銹鋼、鈦、鋁、鎳或其合金,且具有表面氧化層;以及
銅箔,形成于該載箔上,其中該附載箔銅箔經高溫加工作業后,該載箔與該銅箔仍具有可分離之特性。
2.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該高溫加工作業系為攝氏400度,時間2小時之作業程序。
3.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該銅箔系以電鍍制程形成于該載箔上。
4.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該表面氧化層是該載箔在大氣環境下所自然氧化形成的。
5.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該載箔包括含有鎳成分的200或300系列沃斯田系(Austenitic)不銹鋼。
6.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該載箔的十點平均粗糙度(Rz)小于或等于1.0微米。
7.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該載箔的中心線平均粗糙度(Ra)小于或等于0.35微米。
8.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該表面氧化層的厚度小于或等于100納米。
9.如權利要求1所述的附載箔銅箔,其中該銅箔的厚度為0.01~12微米。
10.一種附載箔銅箔的制造方法,包括:
提供載箔,該載箔包含具有表面氧化層的不銹鋼、鈦、鋁、鎳或其合金,其中表面氧化層系為該載箔在大氣環境下所自然氧化形成者;以及
形成銅箔于該載箔上,以制得該附載箔銅箔,其中該附載箔銅箔經高溫加工作業后,該載箔與該銅箔仍具有可分離之特性。
11.如權利要求10所述的附載箔銅箔的制造方法,其中該銅箔系以電鍍制程形成于該載箔上。
12.如權利要求11所述的附載箔銅箔的制造方法,其中該電鍍制程系使用電鍍液。
13.如權利要求12所述的附載箔銅箔的制造方法,其中該電鍍液系包括可與銅離子形成絡合物的絡合劑。
14.如權利要求13所述的附載箔銅箔的制造方法,其中該絡合劑包括焦磷酸鹽、檸檬酸鹽或乙二胺四乙酸(EDTA)。
15.如權利要求10所述的附載箔銅箔的制造方法,其中該附載箔銅箔經攝氏400度、2小時之高溫加工作業后,該載箔與該銅箔的撕離強度小于150克/厘米。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于財團法人工業技術研究院,未經財團法人工業技術研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010572055.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





