[發明專利]曝光裝置和曝光方法

無效

• 申請號: 201010570701.0
• 申請日: 2010-10-08
• 公開（公告）號: CN102063020A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 三宅健;高木俊博
• 申請（專利權）人: 三榮技研股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 劉建

技術領域

本發明涉及用于對具有感光層的基板的曝光面照射光，在曝光面上形成圖案圖案的投影曝光方式的曝光裝置和曝光方法。

背景技術

在采用繪制有圖案的光掩模的曝光方式中，包括使光掩模和基板緊貼(密著)而進行曝光的真空緊貼方式，以及不使它們緊貼的投影曝光方式。

投影曝光方式與真空緊貼方式相比較，具有下述的優點。

(1)由于光掩模和基板不接觸，故沒有光掩模的損傷。于是，可半永久性地采用光掩模。

(2)在將光掩模和基板相互位置對準之后，不產生使兩者相互緊貼而造成的錯位。于是，位置對準精度優良。

另一方面，投影曝光方式還具有下述這樣的缺點。

(3)難以以良好的精度在表面平坦性差的基板的曝光面的全部區域，進行成像。于是，必須要求采用具有自動聚焦功能的光學系統的作業。由此，裝置的價格高，生產性降低。

發明內容

本發明的課題在于確立沒有上述的缺點、價格低、生產性良好的投影曝光方式。

本發明的曝光裝置和曝光方法也可用于不采用光掩模的直接繪圖曝光。

為了解決上述課題，本發明提供一種曝光裝置，其用于對具有感光層的基板的曝光面照射光而在上述曝光面上形成圖案，其特征在于，包括：

基板支撐構件，其用于支撐上述基板；

光源；

投影光學系統，其用于將來自上述光源的光照射到上述曝光面；

光透過性構件，其形成為剛性的光透過性構件，具有與上述曝光面相面對的平面，并按照上述平面與上述投影光學系統的成像面一致的方式配置；

驅動機構，其用于使上述基板支撐構件移動，以便使上述曝光面相對于上述光透過性構件的上述平面緊貼和離開。

上述驅動機構可包括減壓機構，該減壓機構用于使形成于上述光透過性構件的上述平面和上述基板的上述曝光面之間的空間處于其壓力與周邊空間相比較而減小的狀態。

也可在在上述光源和上述投影光學系統之間，有規則地排列用于將來自上述光源的光有選擇地導向上述投影光學系統的多個光學調制元件，在一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性一邊使上述光學調制元件以及上述投影光學系統與上述基板相對地移動的同時，控制上述光學調制元件，由此在上述曝光面上對規定的圖案進行曝光。

或者，還可在上述光源和上述投影光學系統之間，設置多面反射鏡(ポリゴンミ一ラ)，在一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性，一邊相使上述多面反射鏡和上述投影光學系統與上述基板相對地移動的同時，控制上述光源的開關，從而在上述曝光面上對規定的圖案進行曝光。

也可在在上述光源和上述投影光學系統之間，配置繪制有應該形成在上述曝光面上的圖案進行曝光的光掩模，通過該光掩模對上述曝光面進行曝光，由此將上述圖案轉印于上述曝光面。

為了在多個分割區域中的每個上對上述曝光面進行曝光，而具備滑動機構，該滑動機構用于一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性一邊將上述基板、上述基板支撐構件和上述光透過性構件作為一體而移動。

為了使分別設置于上述光掩模和上述基板的相互對應的位置的位置對準用標記彼此實現位置對準，還具備位置對準機構，該位置對準機構通過標記檢測機構檢測上述位置對準用標記，基于已檢測出的數據維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性，并且在使上述基板、上述基板支撐構件和上述光透過性構件為一體的狀態下，使上述光掩模和上述基板中的一方相對于另一方，沿X、Y、θ方向相對移動。

本發明還提供一種曝光方法，將從光源發出并經由投影光學系統后的光照射到具有感光層的基板的曝光面，而在上述曝光面上形成圖案，其特征在于，

將具有與上述曝光面相面對的平面的剛性的光透過性構件以該平面與上述投影光學系統的成像面一致的方式配置，

以上述曝光面緊貼于上述平面上的方式使上述基板移動，

在將上述基板按壓于上述光透過性構件的狀態下進行曝光。

也可在使上述曝光面緊貼于上述平面上時，使形成于上述平面和上述曝光面之間的空間與周邊空間相比較被減壓。