[發明專利]曝光裝置和曝光方法

無效

• 申請號: 201010570701.0
• 申請日: 2010-10-08
• 公開（公告）號: CN102063020A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 三宅健;高木俊博
• 申請（專利權）人: 三榮技研股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 劉建

1.一種曝光裝置，其用于對具有感光層的基板的曝光面照射光而在上述曝光面上形成圖案，其特征在于，

包括：

基板支撐構件，其用于支撐上述基板；

光源；

投影光學系統，其用于將來自上述光源的光照射到上述曝光面；

光透過性構件，其形成為剛性的光透過性構件，具有與上述曝光面相面對的平面，并按照上述平面與上述投影光學系統的成像面一致的方式配置；

驅動機構，其用于使上述基板支撐構件移動，以便使上述曝光面相對于上述光透過性構件的上述平面緊貼和離開。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

上述驅動機構包括減壓機構，該減壓機構用于使形成于上述光透過性構件的上述平面和上述基板的上述曝光面之間的空間處于與周邊空間相比而被減壓的狀態。

3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，

在上述光源和上述投影光學系統之間，有規則地排列用于將來自上述光源的光有選擇地導向上述投影光學系統的多個光學調制元件，在一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性一邊使上述光學調制元件以及上述投影光學系統與上述基板相對地移動的同時，控制上述光學調制元件，由此在上述曝光面上對規定的圖案進行曝光。

4.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，

在上述光源和上述投影光學系統之間，設置多面反射鏡，在一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性一邊使上述多面反射鏡以及上述投影光學系統與上述基板相對地移動的同時，控制上述光源的開/關，由此在上述曝光面上對規定的圖案進行曝光。

5.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，

在上述光源和上述投影光學系統之間，配置繪制有應該形成在上述曝光面上的圖案進行曝光的光掩模，通過該光掩模對上述曝光面進行曝光，由此將上述圖案轉印于上述曝光面。

6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，

為了在多個分割區域中的每個上對上述曝光面進行曝光，而具備滑動機構，該滑動機構用于一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性一邊將上述基板、上述基板支撐構件和上述光透過性構件作為一體而移動。

7.根據權利要求5或6所述的曝光裝置，其特征在于，

為了使分別設置于上述光掩模和上述基板的相互對應的位置的位置對準用標記彼此實現位置對準，還具備位置對準機構，該位置對準機構通過標記檢測機構檢測上述位置對準用標記，基于已檢測出的數據維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性，并且在使上述基板、上述基板支撐構件和上述光透過性構件為一體的狀態下，使上述光掩模和上述基板中的一方相對于另一方，沿X、Y、θ方向相對移動。

8.一種曝光方法，將從光源發出并經由投影光學系統后的光照射到具有感光層的基板的曝光面，而在上述曝光面上形成圖案，其特征在于，

將具有與上述曝光面相面對的平面的剛性的光透過性構件以該平面與上述投影光學系統的成像面一致的方式配置，

以上述曝光面緊貼于上述平面上的方式使上述基板移動，

在將上述基板按壓于上述光透過性構件的狀態下進行曝光。

9.根據權利要求8所述的曝光方法，其特征在于，

在使上述曝光面緊貼于上述平面上時，使形成于上述平面和上述曝光面之間的空間與周邊空間相比較被減壓。

10.根據權利要求8或9所述的曝光方法，其特征在于，

通過有規則地排列于上述光源和上述投影光學系統之間的多個光學調制元件，將來自上述光源的光有選擇地導向上述投影光學系統，在一邊維持上述光透過性構件的上述平面和上述投影光學系統的上述成像面的一致性一邊使上述光學調制元件以及上述投影光學系統與上述基板相對地移動的同時，控制上述光學調制元件，從而在上述曝光面上對規定的圖案進行曝光。