[發(fā)明專利]曝光頭和圖像形成裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010563159.6
• 申請(qǐng)日: 2010-11-25
• 公開（公告）號(hào): CN102081326A
• 公開（公告）日: 2011-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宗和健;井熊健;小泉竜太;井上望
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03G15/043
• 分類號(hào): G03G15/043;G03G15/04;G03G15/00;B41J2/447
• 代理公司: 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威;張彬

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種通過成像光學(xué)系統(tǒng)而對(duì)來自于發(fā)光元件的光進(jìn)行成像的曝光頭以及一種使用了該曝光頭的圖像形成裝置。

背景技術(shù)

在專利文獻(xiàn)1中記載了一種曝光頭，其具有沿主掃描方向以交錯(cuò)狀排列的多個(gè)發(fā)光元件、和與該多個(gè)發(fā)光元件對(duì)置的成像光學(xué)系統(tǒng)。即，該曝光頭通過由成像光學(xué)系統(tǒng)對(duì)各發(fā)光元件射出的光進(jìn)行成像，從而將多個(gè)光點(diǎn)沿主掃描方向排列并且照射到被曝光面上。而且，通過這些光點(diǎn)使被曝光面曝光。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2009-098613號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的問題

如上所述，上述曝光頭通過沿主掃描方向排列的多個(gè)光點(diǎn)而對(duì)被曝光面進(jìn)行曝光。因此，為了實(shí)現(xiàn)較高精度的曝光，有必要以滿足各種條件的方式而形成各光點(diǎn)。這些條件中尤其重要的是，將成像光學(xué)系統(tǒng)的像差(aberration)抑制于較小程度、和確保足夠的用于形成光點(diǎn)的光量。而且，為了使這兩個(gè)條件同時(shí)成立，成像光學(xué)系統(tǒng)的主掃描方向上的放大倍率成為了很重要的參數(shù)。即，一方面當(dāng)主掃描方向上的放大倍率變大時(shí)像差會(huì)惡化，而另一方面當(dāng)主掃描方向上的放大倍率變小時(shí)光利用效率會(huì)惡化，從而用于形成光點(diǎn)的光量會(huì)降低。但是，一直以來，這一點(diǎn)未得到充分的考慮。

本發(fā)明是為了解決上述課題而構(gòu)思的，其目的在于，提供一種在將成像光學(xué)系統(tǒng)的像差抑制于較小程度的同時(shí)，確保足夠的用于形成光點(diǎn)的光量，從而能夠?qū)崿F(xiàn)較高精度的曝光的技術(shù)。

解決課題的方法

為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明所涉及的曝光頭的特征在于，具有；發(fā)光元件陣列，其具有配置在第1方向上的發(fā)光元件；遮光部件，其具有使發(fā)光元件發(fā)射的光通過的孔徑光闌；成像光學(xué)系統(tǒng)，其對(duì)通過遮光部件的光進(jìn)行成像，成像光學(xué)系統(tǒng)的第1方向上的放大倍率的絕對(duì)值在0.7倍以上并且在0.8倍以下。

為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明所涉及的圖像形成裝置的特征在于，具有：潛像載體，其形成有潛像；曝光頭，其具有，包括配置在第1方向上的發(fā)光元件的發(fā)光元件陣列、具有使發(fā)光元件發(fā)射的光通過的孔徑光闌的遮光部件、以及使通過遮光部件后的光透過從而對(duì)潛像載體進(jìn)行曝光的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中，成像光學(xué)系統(tǒng)的第1方向上的放大倍率的絕對(duì)值在0.7倍以上并且在0.8倍以下；顯影部，其對(duì)通過曝光頭而形成在潛像載體上的潛像進(jìn)行顯影。

在以此方式構(gòu)成的發(fā)明(曝光頭、圖像形成裝置)中，由于成像光學(xué)系統(tǒng)的第1方向上的放大倍率在0.8倍以下，因此能夠?qū)⒊上窆鈱W(xué)系統(tǒng)的像差抑制于較小程度，并且由于成像光學(xué)系統(tǒng)的第1方向上的放大倍率在0.7倍以上，因此能夠抑制光利用率的降低，從而確保足夠的用于光點(diǎn)形成的光量。其結(jié)果實(shí)現(xiàn)了較高精度的曝光。

此時(shí)，也可以采用如下結(jié)構(gòu)，即，成像光學(xué)系統(tǒng)具有第1透鏡以及第2透鏡，并且由發(fā)光元件發(fā)射的光，在透過第1透鏡之后接著透過第2透鏡，從而被成像。即，通過由兩枚透鏡構(gòu)成成像光學(xué)系統(tǒng)，從而能夠較容易地制作出，第1方向上的放大倍率的絕對(duì)值在0.7倍以上并在0.8倍以下的成像光學(xué)系統(tǒng)。

而且，成像光學(xué)系統(tǒng)也可以為變形(anamorphic)光學(xué)系統(tǒng)。其原因在于，變形光學(xué)系統(tǒng)有利于對(duì)像差進(jìn)行抑制。

并且，第1透鏡以及第2透鏡可由樹脂透鏡構(gòu)成。這樣，能夠高精度地復(fù)制如主掃描方向和副掃描方向的曲率不同的這種復(fù)雜形狀的非球面透鏡。

此外，本發(fā)明優(yōu)選適用于，發(fā)光元件為有機(jī)EL元件，并且發(fā)光元件陣列具有配置了有機(jī)EL元件的玻璃製的頭基板、和對(duì)有機(jī)EL元件進(jìn)行密封的密封部件的結(jié)構(gòu)。該理由如下文所述。即，有機(jī)EL元件在具有隨著發(fā)光而發(fā)熱的性質(zhì)的同時(shí)，還兼具由于熱帶來的劣化導(dǎo)致壽命縮短的性質(zhì)。因此，從有機(jī)EL元件的長(zhǎng)壽命化的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選促進(jìn)有機(jī)EL元件的放熱，但是，在通過玻璃製的頭基板以及密封部件而環(huán)繞有機(jī)EL元件的結(jié)構(gòu)中，促進(jìn)有機(jī)EL元件的放熱是比較困難的。而且，為了抑制有機(jī)EL元件的發(fā)熱量，有必要對(duì)有機(jī)EL元件發(fā)射的光量進(jìn)行抑制。另一方面，由于對(duì)于如有機(jī)EL元件這樣的擴(kuò)散光源，本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)具有比較高的光利用效率，因此能夠在對(duì)有機(jī)EL元件的光量進(jìn)行抑制的同時(shí)，確保足夠的用于光點(diǎn)形成的光。由此，能夠在對(duì)有機(jī)EL元件的光量進(jìn)行抑制從而對(duì)有機(jī)EL元件的劣化進(jìn)行抑制的同時(shí)，進(jìn)行高精度的曝光。

特別是，在采用發(fā)光元件陣列為底部發(fā)射型的有機(jī)EL元件陣列時(shí)，增多有機(jī)EL元件的光量是很困難的。因此，優(yōu)選為，對(duì)于這樣的結(jié)構(gòu)應(yīng)用本發(fā)明，從而實(shí)現(xiàn)光利用效率的提高。