[發明專利]曝光頭和圖像形成裝置

無效

• 申請號: 201010563159.6
• 申請日: 2010-11-25
• 公開（公告）號: CN102081326A
• 公開（公告）日: 2011-06-01
• 發明（設計）人: 宗和健;井熊健;小泉竜太;井上望
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G03G15/043
• 分類號: G03G15/043;G03G15/04;G03G15/00;B41J2/447
• 代理公司: 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威;張彬

1.一種曝光頭，其特征在于，具有：

發光元件陣列，其具有被配置在第1方向上的發光元件；

遮光部件，其具有使所述發光元件發射的光通過的孔徑光闌；

成像光學系統，其對通過所述遮光部件的光進行成像；

其中，所述成像光學系統在所述第1方向上的放大倍率的絕對值在0.7倍以上且在0.8倍以下。

2.如權利要求1所述的曝光頭，其中，

所述成像光學系統具有第1透鏡以及第2透鏡，

由所述發光元件發射的光，透過所述第1透鏡之后接著透過所述第2透鏡，從而被成像。

3.如權利要求1至2中任意一項所述的曝光頭，其中，

所述成像光學系統為變形光學系統。

4.如權利要求2或者3所述的曝光頭，其中，

所述第1透鏡以及所述第2透鏡為樹脂透鏡。

5.如權利要求1至4中任意一項所述的曝光頭，其中，

所述發光元件為有機EL元件，

所述發光元件陣列具有：配置有所述有機EL元件的玻璃制的頭基板、和用于對所述有機EL元件進行密封的密封部件。

6.如權利要求5所述的曝光頭，其中，

所述發光元件陣列為底部發射型的有機EL元件陣列。

7.如權利要求5或者6所述的曝光頭，其中，

具有對所述有機EL元件進行驅動的驅動電路，并且所述驅動電路被配置在所述頭基板上。

8.一種圖像形成裝置，其特征在于，具有：

潛像載體，潛像形成在該潛像載體上；

曝光頭，具有：發光元件陣列，其具有被配置在第1方向上的發光元件；遮光部件，其具有使所述發光元件發射的光通過的孔徑光闌；成像光學系統，其使通過所述遮光部件的光透過，以對所述潛像載體進行曝光，所述成像光學系統在所述第1方向上的放大倍率的絕對值在0.7倍以上且在0.8倍以下；

顯影部，其對通過所述曝光頭而形成在所述潛像載體上的所述潛像進行顯影。