[發明專利]光學材料的內部狀態的檢查方法以及光學元件的制造方法

無效

• 申請號: 201010541865.0
• 申請日: 2010-11-01
• 公開（公告）號: CN102053094A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發明（設計）人: 金光康中;梅木修
• 申請（專利權）人: 株式會社小原
• 主分類號: G01N21/958
• 分類號: G01N21/958
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

技術領域

本發明涉及光學材料的內部狀態的檢查方法以及光學元件的制造方法。

背景技術

以往，光學材料的內部狀態(例如脈紋)的檢查，是采用紋影法而進行的，即在光學材料上照射用瞄準鏡平行后的光束，再用成像透鏡會聚透射光，通過配置于焦點附近的刃形支承(knife-edge)，得到具有優異反差的像(例如，參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開平10-239236號公報

發明內容

但是，由于在以往的方法中，圖像中會出現如圖8所示的疊影、反射光斑混在一起、或者灰塵被放大映射出的情況，因此存在妨礙正確檢查光學材料內部狀態的問題。此外，由于生成的圖像視野狹小，因此在特定范圍持續檢查內部狀態則需要較長時間。如果想要擴大圖像的視野，則應該增加檢查系統的長度，為了抑制檢查系統的長度，如果用鏡子反射光，則生成的圖像容易模糊。

本發明是鑒于以上情況而完成的，目的在于提供能夠使用長度短的檢查系統且確保廣視野，能夠正確檢查光學材料的內部狀態的檢查方法、以及在短時間內能夠制造高品質光學元件的光學元件的制造方法。

本發明人發現，通過使照射光學材料的光為漫射光，將透射光會聚后進行成像，能夠使用長度短的檢查系統且確保廣視野，能夠正確檢查光學材料的內部狀態，從而完成了本發明。具體而言，本發明提供以下方案。

(1)一種檢查光學材料的內部狀態的檢查方法，該檢查方法包括以下工序：

向光學材料照射漫射光，基于透射該光學材料的透射光，來檢查所述光學材料的內部狀態。

(2)如(1)所述的檢查方法，其包括將所述透射光用會聚透鏡進行會聚，然后基于在成像透鏡中所成的像，來檢查所述光學材料的內部狀態的工序。

(3)如(2)所述的檢查方法，其進一步包括對所述會聚透鏡和所述成像透鏡中的至少一方的形態進行調節的工序。

(4)如(3)所述的檢查方法，其中，所述形態的調節是不改變所述會聚透鏡和所述成像透鏡相對于所述光學材料的位置來進行的。

(5)如(2)至(4)中任一項所述的檢查方法，其中，所述會聚透鏡具有平面凸透鏡。

(6)如(2)至(5)中任一項所述的檢查方法，其中，所述會聚透鏡具有45mm以上的有效直徑。

(7)如(2)至(6)中任一項所述的檢查方法，其中，所述成像透鏡是凹凸透鏡。

(8)如(1)至(7)中任一項所述的檢查方法，其中，所述光學材料的內部狀態的檢查，是通過將會聚的透射光轉換為電子信號來進行的。

(9)如(8)所述的檢查方法，其中，向所述電子信號的轉換是采用CMOS來進行的。

(10)如(1)至(9)中任一項所述的檢查方法，其進一步包括對所述光學材料的形態和高度進行調節的工序。

(11)如(10)所述的檢查方法，其中，所述光學材料的形態的調節，是使用載置臺和連接部件，通過使抵接面和被抵接面以磁性連接狀態滑動來進行的；所述載置臺載置有所述光學材料并且具有局部球面形狀的所述抵接面；所述連接部件具有與所述抵接面呈對稱形狀且具有能夠與所述抵接面磁性連接的所述被抵接面。

(12)如(1)至(11)中任一項所述的檢查方法，所述光學材料的內部狀態是含有脈紋的程度。

(13)一種光學元件的制造方法，其包括以下工序：使用如(1)至(12)中任一項所述的檢查方法，對作為光學元件的候補體的光學材料的內部狀態進行檢查，根據該內部狀態滿足特定基準，來從所述候補體中挑選光學元件。

根據本發明，通過使照射光學材料的光為漫射光，將透射光會聚后進行成像，能夠使用長度短的檢查系統且確保廣視野，能夠正確檢查光學材料的內部狀態。

附圖說明

圖1是用于進行本發明一個實施方式的檢查方法的檢查系統的側視圖。

圖2是圖1的檢查系統的平面圖。

圖3是構成圖1的檢查系統的會聚透鏡的主視圖。

圖4是圖1的形態調節部的局部放大斷面圖。

圖5是表示使用本發明的一個實施例的檢查方法所產生的圖像的照片。

圖6是表示使用比較例的檢查方法所產生的圖像的照片。

圖7是表示使用本發明另一個實施例的檢查方法所生成的圖像的照片。

圖8是表示使用比較例所涉及的檢查方法所產生的圖像的照片。

符號說明

10檢查系統

20光照射部

21光源

23光源支承部

30定位部

31臺部

34伸縮部

35形態調節部