[發(fā)明專利]光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)的檢查方法以及光學(xué)元件的制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010541865.0
• 申請(qǐng)日: 2010-11-01
• 公開（公告）號(hào): CN102053094A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金光康中;梅木修
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社小原
• 主分類號(hào): G01N21/958
• 分類號(hào): G01N21/958
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

1.一種檢查光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)的檢查方法，該檢查方法包括以下工序：

向光學(xué)材料照射漫射光，基于透射該光學(xué)材料的透射光，來檢查所述光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)。

2.如權(quán)利要求1所述的檢查方法，其包括將所述透射光用會(huì)聚透鏡進(jìn)行會(huì)聚，然后基于在成像透鏡中所成的像，來檢查所述光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)的工序。

3.如權(quán)利要求2所述的檢查方法，其進(jìn)一步包括對(duì)所述會(huì)聚透鏡和所述成像透鏡中的至少一方的形態(tài)進(jìn)行調(diào)節(jié)的工序。

4.如權(quán)利要求3所述的檢查方法，其中，所述形態(tài)的調(diào)節(jié)是不改變所述會(huì)聚透鏡和所述成像透鏡相對(duì)于所述光學(xué)材料的位置來進(jìn)行的。

5.如權(quán)利要求4所述的檢查方法，其中，所述會(huì)聚透鏡具有平面凸透鏡。

6.如權(quán)利要求2所述的檢查方法，其中，所述會(huì)聚透鏡具有45mm以上的有效直徑。

7.如權(quán)利要求2所述的檢查方法，其中，所述成像透鏡是凹凸透鏡。

8.如權(quán)利要求1所述的檢查方法，其中，所述光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)的檢查，是通過將會(huì)聚的透射光轉(zhuǎn)換為電子信號(hào)來進(jìn)行的。

9.如權(quán)利要求8所述的檢查方法，其中，向所述電子信號(hào)的轉(zhuǎn)換是采用CMOS來進(jìn)行的。

10.如權(quán)利要求1所述的檢查方法，其進(jìn)一步包括對(duì)所述光學(xué)材料的形態(tài)和高度進(jìn)行調(diào)節(jié)的工序。

11.如權(quán)利要求10所述的檢查方法，其中，所述光學(xué)材料的形態(tài)的調(diào)節(jié)，是通過使用載置有所述光學(xué)材料且具有局部球面形狀的抵接面的載置臺(tái)、和具有與所述抵接面對(duì)稱的形狀且具有能夠與所述抵接面磁性連接的被抵接面的連接部件，使所述抵接面和所述被抵接面以磁性連接狀態(tài)進(jìn)行滑動(dòng)來調(diào)節(jié)的。

12.如權(quán)利要求1所述的檢查方法，所述光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)是含有脈紋的程度。

13.一種光學(xué)元件的制造方法，其包括以下工序：使用如權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的檢查方法，對(duì)作為光學(xué)元件的候補(bǔ)體的光學(xué)材料的內(nèi)部狀態(tài)進(jìn)行檢查，根據(jù)該內(nèi)部狀態(tài)滿足特定基準(zhǔn)，來從所述候補(bǔ)體中挑選光學(xué)元件。