[發明專利]霧面轉印膜結構

無效

• 申請號: 201010538423.0
• 申請日: 2010-11-10
• 公開（公告）號: CN102009540A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 韓久康
• 申請（專利權）人: 琨詰電子（昆山）有限公司
• 主分類號: B41M5/41
• 分類號: B41M5/41;B44C1/165
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林;王壽剛

技術領域

????本發明涉及一種轉印膜結構，具體講是涉及一種霧面轉印膜結構。

背景技術

產品外觀構裝為影響消費行為的重要因素，具備獨特構圖設計與時尚質感的產品往往能夠得到較多青睞。模內裝飾(IMD，In-mold??decoration)為一項新型塑料加工技術，是將上方印有裝飾圖紋的轉印膜定位于射出機的模具內，在塑料制品射出成形同時，進行圖紋轉印，完成殼體外觀裝飾。相對于傳統噴涂、印刷、電鍍等加工方式，模內裝飾技術可配合制品批量生產，連續完成圖紋轉印，可簡化生產步驟、縮短制程時間，己廣泛應用于電子裝置、家用電器等諸多領域。

霧面化為常見的外觀設計方式，為達到霧面效果，必須對轉印膜結構采取特殊處理。圖1為現有技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖，圖2為圖1的霧面轉印膜結構的應用狀態剖面示意圖。如圖所示，霧面轉印膜結構10包括一基底薄膜層11、一凸塊結構層12、一離型層13、一硬化膜層14、一飾紋層15以及一黏著膜層16。基底薄膜層11可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用來提供表面平坦且不易變形的基材，以利于后續涂布與印刷等加工工藝。凸塊結構層12通過網版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜層11表面上方，用來使基底薄膜層11表面形成凹凸結構。離型層13設置于基底薄膜層11及凸塊結構層12的表面上方，用來輔助基底薄膜層11離型。硬化膜層14設置于離型層13表面上，由樹脂溶液干燥形成，為具有高硬度的保護層，由于硬化膜層14是間隔著離型層13鄰接于基底薄膜層11及凸塊結構層12，因此其下表面同樣形成凹凸結構。飾紋層15設置于硬化膜層14表面上，是由印刷形成的油墨裝飾圖紋。黏著膜層16設置于飾紋層15表面上方。

在轉印的時候，提供一定的制程條件(例如：預定溫度值)，使黏著膜層16緊密黏著于物品80表面，從而將霧面轉印膜結構10結合于物品80。最后，借著離型層13將基底薄膜層11與凸塊結構層12撕離，完成圖紋轉印。硬化膜層14的表面凹凸結構將可達到霧面化的視覺效果。上述的霧面轉印膜結構10雖可達到霧面化效果，但是其必須額外經由繁瑣工序，制版印刷完成凸塊結構層12的制作，不僅耗費工時，更造成制程成本提高。

圖3為另一現有技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖。圖中的霧面轉印膜結構20系由次序堆棧的一基底薄膜層21、一離型層22、一硬化膜層23、一飾紋層24以及一黏著膜層25共同構成。其中，硬化膜層23中摻雜有由微粒子230所構成的抗眩光劑，從而達到霧面化效果。然而，由于硬化膜層23的機能為提供高硬度防護膜，摻雜其中的微粒子230將破壞結構連續性，而降低其結構強度，致使膜層劣化風險提高，影響產品的品質。

發明內容

為解決現有技術的不足，本發明目的在于提供一種霧面轉印膜結構，不僅使轉印膜應用時達到霧面化效果，而且可精簡霧面轉印膜結構的制程工序，從而達到縮短工時、降低成本的功效。

為達上述目的，本發明是通過以下的技術方案來實現的。

一種霧面轉印膜結構，其特征在于包括：一基底薄膜層，包括由微粒子構成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設置于該基底薄膜層的上表面；一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬化膜層的上表面；一黏著膜層，設置于該飾紋層的上表面。

????前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子的粒徑為0.1微米至20微米。

前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。

前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的基底薄膜層為高分子聚合物基材，該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。

前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的基底薄膜層為一纖維系薄膜，該纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。

前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的離型層的材料為聚硅氧烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂中的一種，其厚度為0.5微米至40微米。