[發(fā)明專利]霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010538423.0
• 申請日: 2010-11-10
• 公開（公告）號: CN102009540A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 韓久康
• 申請（專利權(quán)）人: 琨詰電子（昆山）有限公司
• 主分類號: B41M5/41
• 分類號: B41M5/41;B44C1/165
• 代理公司: 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林;王壽剛

1.霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括：一基底薄膜層，包括由微粒子構(gòu)成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設(shè)置于該基底薄膜層的上表面；一硬化膜層，設(shè)置于該離型層的上表面；一飾紋層，設(shè)置于該硬化膜層的上表面；一黏著膜層，設(shè)置于該飾紋層的上表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子的粒徑為0.1微米至20微米。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求l所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基底薄膜層為高分子聚合物基材，該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。

5.根據(jù)權(quán)利要求l所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基底薄膜層為一纖維系薄膜，該纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求l所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的離型層的材料為聚硅氧烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂中的一種，其厚度為0.5微米至40微米。

7.根據(jù)權(quán)利要求l所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的硬化膜層的材料為聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯中的一種，其厚度為3微米至60微米。

8.根據(jù)權(quán)利要求l所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層，油墨層的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂中的一種加入顏料混合制得。

9.根據(jù)權(quán)利要求l所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的黏著膜層的材料為聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂中的一種，其厚度為3微米至50微米。