[發明專利]用于化學氣相沉積設備的裝載室有效
| 申請號: | 201010536810.0 | 申請日: | 2008-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN101967627A | 公開(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發明(設計)人: | 李相琝;樸相泰 | 申請(專利權)人: | SFA股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 韓國忠*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 化學 沉積 設備 裝載 | ||
1.一種用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,包含:
一腔體,具有一上壁、一下壁、至少一設置在所述上壁以及所述下壁之間且大致與所述上壁以及所述下壁平行的隔墻,一越過所述上壁、所述下壁以及所述隔墻的側壁,復數個將一基板容置在其中的內容置空間,以及連結所述隔墻與所述側壁的至少一結合件。
2.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,所述結合件是一螺釘,所述螺釘是朝相對于所述隔墻的一表面的垂直方向插入而連結到所述側壁,以及所述側壁形成有用來結合所述螺釘的一插入空間。
3.根據權利要求2所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,所述插入空間是一凹陷部,所述凹陷部向內從所述側壁的一外表面朝所述內容置空間而形成。
4.根據權利要求3所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,所述側壁包含復數個相對于所述隔墻而垂直設置的單組側壁,且所述凹陷部憑借加工處理的鄰近所述隔墻的單組側壁的一轉彎區域。
5.根據權利要求4所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,一朝所述內容置空間方向突伸的突伸部形成在所述隔墻上,以及一分離間隙(separation?gap)形成在所述突伸部的側表面與所述單組側壁的內側表面之間。
6.根據權利要求2所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,所述螺釘包含:
一設置在所述隔墻的頭部;
一插設在所述隔墻以及所述側壁的柄部(shaft?portion);以及
一形成在所述隔墻,且容置所述頭部而不允許所述頭部暴露在所述隔墻的表面的上的容置部。
7.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,一避免粒子由所述上壁、所述下壁以及所述隔墻從外部漏出的粒子防漏部,是連結到一位于所述上臂與所述單組側壁之間的結合部,一位于所述下壁與所述單組側壁之間的結合部,以及一位于所述隔墻與所述單組側壁之間的結合部三者其中之一。
8.根據權利要求7所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,所述粒子防漏部為一帶狀(strap?shape),以所述結合部的圓周方向連結,且所述粒子防漏部是由鐵氟龍以及聚碳酸酯樹脂等絕緣材質其中之一所形成。
9.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,一景窗(window)是裝設在所述側壁的一開口部(opening?portion),以監測所述腔體的內側,以及使用所述結合件結合所述側壁以及所述格板的一結合孔,是形成在所述開口部的上部以及下部的至少一區域。
10.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備的裝載室,其特征在于,進一步包括一O型環,是至少設置在所述上壁與所述側壁之間的一部位,所述下壁與所述側壁之間的一部位,以及所述側壁與所述隔墻之間的一部位其中之一。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





