[發(fā)明專利]用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的裝載室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010536810.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-11-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101967627A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李相琝;樸相泰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | SFA股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/44 | 分類號(hào): | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 韓國(guó)忠*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 化學(xué) 沉積 設(shè)備 裝載 | ||
本申請(qǐng)是一件分案申請(qǐng),原案的發(fā)明名稱是“用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的裝載室”,原案的申請(qǐng)?zhí)枮椋?00810180988.9,原案的申請(qǐng)日是2008年11月20日。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種裝載室,特別是指一種可以憑借強(qiáng)化結(jié)構(gòu)的強(qiáng)度而將結(jié)構(gòu)上的變形最小化,以避免因壓差所產(chǎn)生的彎曲應(yīng)力的用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的裝載室。
背景技術(shù)
平板顯示器是已廣泛地應(yīng)用于電視產(chǎn)品、電腦螢?zāi)弧⒒蚴莻€(gè)人手提終端機(jī)上。而平板顯示器可以包括液晶顯示器(liquid?crystal?display,LCD)、等離子顯示面板(plasma?display?panel)、以及有機(jī)發(fā)光二極管(organic?light?emitting?diode)。在這些平板顯示器中,液晶顯示器是將介于固態(tài)與液態(tài)之間的中間物質(zhì)的液晶,注入在兩片薄板的上、下玻璃基板之間的空間,利用一種光開(kāi)關(guān)現(xiàn)象以顯示數(shù)字或影像,且使用于上、下玻璃基板電極之間的電壓差改變液晶分子的方向,以產(chǎn)生不同亮度。
目前液晶顯示器廣泛地使用于從如電子手表、電子計(jì)算機(jī)、電視機(jī)的電子產(chǎn)品,到車用產(chǎn)品、里程計(jì)以及飛機(jī)的操作系統(tǒng)等。普遍來(lái)說(shuō),當(dāng)顯示螢?zāi)坏某叽缧∮?7吋時(shí),液晶顯示電視已經(jīng)具有20到30吋的尺寸。然而,近來(lái)比較暢銷的液晶顯示電視的尺寸是40吋或以上,且電腦螢?zāi)坏某叽缫矎?0吋或以上而繼續(xù)在增加中。
于是,液晶顯示器的制造商是發(fā)展較大尺寸基板的制造方法。再者,所謂具有約2公尺水平以及垂直長(zhǎng)度的第八代玻璃基板量產(chǎn),已準(zhǔn)備或者是目前正在生產(chǎn)中。液晶顯示器是經(jīng)由一薄膜電晶體陣列制程(TFT?Arrayprocess)、一液晶胞制程(Cell?process)以及一模塊制程(module?process)大量制造,其中薄膜電晶體陣列制程包括重復(fù)沉積(deposition)、黃光(photolithography)、蝕刻(etching)以及化學(xué)氣相沉積(chemical?vapor?deposition,CVD)等步驟,液晶胞制程是將上、下玻璃基板附著地相互結(jié)合于一起,而模塊制程是用來(lái)完成液晶顯示器產(chǎn)品。
上述薄膜電晶體陣列制程之一的化學(xué)氣相沉積制程,是在一制程腔室(process?chamber)中進(jìn)行,而制程腔室具有化學(xué)氣相沉積制程的一最佳環(huán)境。特別是,在一短時(shí)間內(nèi)處理多個(gè)基板,則廣泛地使用具有復(fù)數(shù)個(gè)且以一預(yù)定間隔而設(shè)置的制程腔室的一化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
化學(xué)氣相沉積設(shè)備具有復(fù)數(shù)個(gè)制程腔室以進(jìn)行一化學(xué)氣相沉積制程,一裝載室(loadlock?chamber)以形成在輸入一基板到一相對(duì)應(yīng)的制程腔室之前,供將一基板輸出到制程腔室的環(huán)境,以及一傳輸腔室(transfer?chamber)以連接每一制程腔室與裝載室,且具有一機(jī)械手臂以將基板由裝載室傳輸?shù)较鄬?duì)應(yīng)的制程腔室,或是將基板從制程腔室傳輸?shù)窖b載室。
一種化學(xué)氣相沉積制程是在制程腔室中進(jìn)行,即基板是在高溫低壓的環(huán)境中。因此,難以允許基板在大氣壓力下直接地輸入到高溫高壓下的制程腔室中,故在將基板傳輸到相對(duì)應(yīng)的制程腔室之前,制程腔室必須形成如其相同的環(huán)境,其是由裝載室所完成。也即,裝載室容納基板在大致如制程腔室相同的環(huán)境,或是在將基板從外部世界輸入到制程腔室之前的相同環(huán)境,抑或者是將基板從制程腔室取出到外部世界的相同環(huán)境。
近來(lái),所謂的多裝載室(multi-loadlock?chamber)具有復(fù)數(shù)個(gè)單組腔室用來(lái)增加制程效率以及改善生產(chǎn)率。請(qǐng)參考圖1以及圖2,是表示一現(xiàn)有多裝載室10的橫斷面圖。
如圖1所示,多裝載室10具有一個(gè)三單組腔室(unit?chamber)的結(jié)構(gòu),即相互疊置的第一、第二以及第三單組腔室11a、12a、13a,且包括形成在多裝載室10的一上表面的一上壁15,形成在多裝載室10的一下表面的一下壁16,第一、第二、第三腔架(chamber?frame)11、12、13垂直地疊置在上壁15與下壁16之間,一第一隔墻17插設(shè)在第一腔架11與第二腔架12之間,以及一第二隔墻18插置在第二腔架12與第三腔架13之間。供基板輸出或取出而經(jīng)過(guò)的三個(gè)腔槽10a,是形成在多裝載室10的相對(duì)橫向側(cè)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
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