[發明專利]殼體及其制造方法

無效

• 申請號: 201010520297.6
• 申請日: 2010-10-26
• 公開（公告）號: CN102453853A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;陳曉強
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種殼體，包括鋁或鋁合金基體，一形成于鋁或鋁合金基體表面的防腐蝕層，及一形成于防腐蝕層表面的色彩層，其特征在于：所述防腐蝕層為Al層。

2.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該防腐蝕層的厚度為1.0～3.0μm。

3.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：所述色彩層為Ti-N層或Cr-N層。

4.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：所述防腐蝕層及色彩層以磁控濺射鍍膜法形成。

5.一種殼體的制造方法，包括以下步驟：

提供鋁或鋁合金基體；

該鋁或鋁合金基體上磁控濺射形成防腐蝕層，該防腐蝕層為一Al層；

于該防腐蝕層上磁控濺射形成色彩層。

6.如權利要求5所述的殼體的制造方法，其特征在于：磁控濺射所述防腐蝕層的工藝參數為：以氬氣為工作氣體，其流量為100～300sccm，設置占空比為30％～80％，于鋁或鋁合金基體上施加-50～-200V的偏壓，設置Al為靶材，設置其功率為8～13kw，濺射溫度為50～150℃。

7.如權利要求6所述的殼體的制造方法，其特征在于：所述防腐蝕層的濺射時間為10～30min。

8.如權利要求5所述的殼體的制造方法，其特征在于：磁控濺射所述色彩層的工藝參數為：開啟一鈦靶或鉻靶的電源，設置其功率8～10kw，設置氮氣流量為20～150sccm。

9.如權利要求8所述的殼體的制造方法，其特征在于：所述色彩層的濺射時間為20～30min。