[發(fā)明專利]運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010506663.2
• 申請(qǐng)日: 2010-09-27
• 公開（公告）號(hào): CN102199007A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小泉晴彥;松元俊二
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友精密工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C03C23/00
• 分類號(hào): C03C23/00
• 代理公司: 北京三幸商標(biāo)專利事務(wù)所 11216
• 代理人: 劉激揚(yáng)

1.一種運(yùn)送式基板裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，該系統(tǒng)設(shè)置于運(yùn)送式基板裝置中，通過清洗水對(duì)化學(xué)液處理后的基板進(jìn)行清洗處理，其特征在于：

包括：多個(gè)清洗區(qū)，其沿基板運(yùn)送方向排列于化學(xué)液處理區(qū)的下游側(cè)；槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)，其設(shè)置于最上游側(cè)的清洗區(qū)；分別設(shè)置于第2級(jí)以后的清洗區(qū)的噴淋處理用的清洗機(jī)構(gòu)和回收使用后的清洗水的箱；供水系統(tǒng)，其將由未使用的純水形成的清洗水，供向最下游側(cè)的清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)；階梯方式的送水系統(tǒng)，其將各箱內(nèi)的清洗水依次送給上游側(cè)的清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)；排水系統(tǒng)，其將在最上游側(cè)的清洗區(qū)的使用完的清洗水排出；

按照下述方式設(shè)定來(lái)自該清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)的清洗水的排出開始時(shí)刻和排出結(jié)束時(shí)刻，該方式為：在基板前端進(jìn)入最上游側(cè)的清洗區(qū)的時(shí)刻之前，開始來(lái)自該清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)的清洗水的排出，在基板后端與該清洗區(qū)脫離的時(shí)刻之后，停止來(lái)自該清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)的清洗水的排出，并且確保將從最上游側(cè)的清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)排出的清洗水的污染度維持在允許限度內(nèi)，且在該限度附近所必需的清洗水的排出時(shí)間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于即使在基板后端與最上游側(cè)的清洗區(qū)脫離的時(shí)刻之后，仍繼續(xù)排出，通過該延長(zhǎng)排出時(shí)間的調(diào)整，從最上游側(cè)的清洗區(qū)中的清洗機(jī)構(gòu)排出的清洗水的污染度控制在所需值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于在第2級(jí)的清洗區(qū)內(nèi)，在該清洗區(qū)中的噴淋處理用的清洗機(jī)構(gòu)的下游側(cè)，設(shè)置槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)，其按照高于設(shè)置于最上游側(cè)的清洗區(qū)的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)的壓力，排出清洗水。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于來(lái)自最上游側(cè)的清洗區(qū)中的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)的清洗水的排出壓力在0.08～0.1MPa的范圍內(nèi)，來(lái)自設(shè)置于第2級(jí)的清洗區(qū)中的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)的清洗水的排出壓力在0.3～0.4MPa的范圍內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于從設(shè)置于第2級(jí)的清洗區(qū)的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)之下通過的基板速度小于從設(shè)置于最上游側(cè)的清洗區(qū)的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)之下通過的基板速度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于從設(shè)置于第2級(jí)的清洗區(qū)的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)之下通過的基板速度與設(shè)置于多個(gè)清洗區(qū)的下游側(cè)的干燥區(qū)內(nèi)的氣刀的干燥處理中的基板運(yùn)送速度相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于第2級(jí)的清洗區(qū)中的噴淋處理區(qū)域兼作基板速度調(diào)整區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求3～7中的任何一項(xiàng)所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于設(shè)置于第2級(jí)的清洗區(qū)中的槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)的清洗水的供給比例在該清洗區(qū)整體的清洗水的供給量為1時(shí)，在0.5～0.8的范圍內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求3～8中的任何一項(xiàng)所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于第3級(jí)的清洗區(qū)為最終清洗區(qū)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中的任何一項(xiàng)所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于在槳處理用的清洗機(jī)構(gòu)由第1噴嘴排和第2噴嘴排組合形成，在該第1噴嘴排中，呈三角形的膜狀排出清洗水，呈直線狀而吹到基板表面上的平型的噴霧嘴沿與基板運(yùn)送線相垂直的線橫寬方向排列，各噴霧嘴的基板表面上的直線狀噴霧圖案相對(duì)線橫寬方向，沿相同方向而按照規(guī)定角度傾斜，在該第2噴嘴排中，在第1噴嘴排的下游側(cè)，上述平型的噴霧嘴沿線橫寬方向排列，來(lái)自各噴霧嘴的液膜伴隨規(guī)定的重疊而沿上述橫向?qū)挾确较蜻B續(xù)，形成橫向?qū)挾确较虻娜繀^(qū)域的幕狀的液膜。

11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中的任何一項(xiàng)所述的運(yùn)送式基板處理裝置中的節(jié)水型清洗系統(tǒng)，其特征在于在回收從最上游到第2級(jí)清洗區(qū)使用后的清洗水的箱內(nèi)，組合有檢測(cè)該箱內(nèi)的清洗水的污染度的水質(zhì)傳感器。