[發明專利]具有色彩的殼體及其表面處理方法

無效

• 申請號: 201010300780.3
• 申請日: 2010-01-27
• 公開（公告）號: CN102137557A
• 公開（公告）日: 2011-07-27
• 發明（設計）人: 陳杰良;魏朝滄;王仲培;張慶州;簡士哲;凌維成;吳佳穎;洪新欽;廖名揚;蔡泰生;黃建豪
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: H05K5/00
• 分類號: H05K5/00;B44C1/04;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種具有色彩的殼體及其表面處理方法，尤其涉及一種可具有特定色彩與金屬質感的殼體及其加工方法。

背景技術

隨著科技的迅速演進，手機、掌上計算機(PDA，Personal?Digital?Assistant)、個人計算機與筆記型計算機等各式電子裝置發展迅速，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。惟，塑料外殼與噴漆外殼不能呈現良好的金屬質感。另一方面，由于金屬鍍膜本身技術較為復雜而不易精密操控，因此習知技術始終只能于殼體表面形成少數幾種傳統金屬色彩，未能于豐富色彩質感方面有所突破。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種具有特定色彩的具有色彩的殼體及其表面處理方法，以解決習知問題。

一種具有色彩的殼體包含基材、色彩層與結合層。基材的表面包含至少一平滑區域，而色彩層覆蓋基材的平滑區域，其中色彩層包含鈦金屬，且色彩層于平滑區域中呈現的色度區域于國際照明委員會(Commission?internationale?de?l’éclairag，CIE)LAB表色系統的L*坐標介于32.51至34.51，a*坐標介于-8.74至-7.74，而b*坐標介于-12.39至-11.39。結合層設置于基材與色彩層之間，以接合基材與色彩層。

一種具有色彩的殼體的表面處理方法包括以下步驟：提供一基材；形成一結合層，覆蓋基材的表面；以及利用一物理氣相沉績工藝形成一色彩層，覆蓋結合層表面，其中色彩層呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L*坐標介于32.51至34.51，a*坐標介于-8.74至-7.74，而b*坐標介于-12.39至-11.39。

與現有技術相比，所述具有色彩的殼體藉由其色彩層提供特定色彩的金屬質感。

附圖說明

圖1是本發明較佳實施例的具有色彩的殼體的結構示意圖。

圖2是圖1的具有色彩的殼體的部份結構剖面示意圖。

圖3是本發明較佳實施例的色彩層于CIE?LAB表色系統L*坐標的范圍的示意圖。

圖4是本發明較佳實施例的色彩層于CIE?LAB表色系統a*坐標與b*坐標的范圍的示意圖。

圖5是本發明較佳實施例對具有色彩的殼體進行表面處理的流程示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖，以較佳實施例并配合圖式詳細描述如下。

請參閱圖1及圖2，本發明具有色彩的殼體的較佳實施例例如可為一手機的外殼，其包括一基材1、一結合層2、一色彩層3及選擇性的覆蓋層4。其中結合層2設于基材1的表面，色彩層3設置于結合層2的表面，而覆蓋層4可設置于色彩層3的表面。

基材1可包含不銹鋼等金屬材料或是玻璃等陶瓷材料，基材1可具有至少一待鍍膜處理的表面，而待鍍膜處理的表面可以包含具有不同表面結構的區域，例如包含至少一平滑區域。結合層2設置于基材1與色彩層3之間，以接合基材1與色彩層3。結合層2的材料可包含氮化鈦(CrN)或其它可提供附著效果的材料。色彩層3可包含一層或復數層金屬材料，例如鈦鋁碳合金。覆蓋層4可包含任何適當的絕緣材料，以提供保護效果。由于本發明具有色彩的殼體具有前述基材1、結合層2及色彩層3，所形成的具有色彩的殼體的維氏硬度(Vickershardness)可大于等于250HV。

請參閱圖3與圖4，當基材1的待鍍膜表面包含平滑區域時，本發明所提供的色彩層3于平滑區域中呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L*坐標可介于32.51至34.51，a*坐標可介于-8.74至-7.74，而b*坐標可介于-12.39至-11.39。

請參閱圖5，并一并參閱圖1與圖2，本發明具有色彩的殼體的表面處理方法包括以下步驟：首先，形成一手機外殼的基材1，基材1是由不銹鋼等金屬材料或是玻璃等陶瓷材料制成。形成基材1后可進一步對基材1進行表面處理，以滿足外殼的外觀色質需要，或可進一步調整基材1的平整度使后續形成于其表面上的結合層2具有高附著性。

其次，于基材1表面上的預定位置形成一結合層2，例如結合層2的材料較佳包含氮化鈦。實際生產中可以采用物理氣相沉積工藝濺鍍的方法于基材1的表面上形成結合層2，以基材1為基材，利用一鈦靶材濺鍍，采用射頻(RF)能量源激發氬氣電漿以27至33標況毫升每分(standard?cubic?centimeter?per?minute，sccm)的流量沖擊靶材，使靶材表面的材質噴濺出來，沉積至基材1表面。