[發明專利]具有色彩的殼體及其表面處理方法

無效

• 申請號: 201010300780.3
• 申請日: 2010-01-27
• 公開（公告）號: CN102137557A
• 公開（公告）日: 2011-07-27
• 發明（設計）人: 陳杰良;魏朝滄;王仲培;張慶州;簡士哲;凌維成;吳佳穎;洪新欽;廖名揚;蔡泰生;黃建豪
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: H05K5/00
• 分類號: H05K5/00;B44C1/04;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種具有色彩的殼體，其包括一基材，一色彩層，以及一結合層，所述基材的表面包含至少一平滑區域，所述色彩層覆蓋所述基材的所述平滑區域，所述色彩層包含鉻金屬，所述結合層設置于所述基材與所述色彩層之間，以接合所述基材與所述色彩層，其特征在于：所述色彩層于所述平滑區域中呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L*坐標介于32.51至34.51，a*坐標介于-8.74至-7.74，而b*坐標介于-12.39至-11.39。

2.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于：所述基材為金屬材料或陶瓷材料。

3.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于：所述結合層包含氮化鈦。

4.如權利要求3所述的具有色彩的殼體，其特征在于：所述結合層是于一物理氣相沉積工藝中利用一鈦靶材所形成。

5.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于：所述色彩層包含鈦鋁碳合金。

6.如權利要求5所述的具有色彩的殼體，其特征在于：所述色彩層是于一物理氣相沉積工藝中利用一鈦靶材、一鋁靶材與一碳靶材所形成。

7.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于：所述具有色彩的殼體的維氏硬度(Vickers?hardness)大于等于250HV。

8.一種具有色彩的殼體的表面處理方法，包含：

提供一基材；

形成一結合層，覆蓋所述基材的表面；以及

利用一物理氣相沉積工藝形成一色彩層，覆蓋所述結合層表面，其特征在于：所述色彩層呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L*坐標介于32.51至34.51，a*坐標介于-8.74至-7.74，而b*坐標介于-12.39至-11.39。

9.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述基材為金屬材料與陶瓷材料。

10.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：形成所述結合層的步驟包含一物理氣相沉積工藝。

11.如權利要求10所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝包含利用一鈦靶材進行濺鍍，而所述結合層包含氮化鈦。

12.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝包含利用一鈦靶材、一鋁靶材與一碳靶材進行濺鍍，而所述色彩層包含鈦鋁碳合金。

13.如權利要求12所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝轟擊所述鈦靶材的功率介于22.5至27.5千瓦。

14.如權利要求12所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝轟擊所述鋁靶材的功率介于22.5至27.5千瓦。

15.如權利要求12所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝轟擊所述碳靶材的功率介于4.5至5.5千瓦。

16.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝的偏壓介于198至242伏特。

17.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝的工藝溫度介于攝氏97至119度。

18.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝的工藝時間介于18至22分。

19.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝的工藝壓力介于2.25至2.75毫托耳。

20.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝包括提供氬氣，且氬氣的流量介于54至66標況毫升每分(standard?cubiccentimeter?per?minute，sccm)。

21.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積工藝包括提供氮氣，且氮氣的流量介于216至264sccm。

22.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述基材于所述物理氣相沉積工藝中的公轉轉速介于3.6至4.4轉速每分(revolution?per?minute，rpm)。

23.如權利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述基材于所述物理氣相沉積工藝中的公轉轉速介于-4.4至-3.6rpm。