[發明專利]承載裝置及使用承載裝置的鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201010300588.4
• 申請日: 2010-01-22
• 公開（公告）號: CN102134705A
• 公開（公告）日: 2011-07-27
• 發明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種承載裝置及使用承載裝置的鍍膜裝置。

背景技術

目前，一些鐵磁性金屬制品上需要以濺鍍的方式鍍上保護膜。現有的鍍膜機臺通常采用掛鉤來固定待鍍膜的金屬制品，使得在固定以及取下金屬制品時，都顯得有些不便。另外，采用掛鉤固定待鍍膜的金屬制品，不易調節金屬制品與靶材之間的距離，從而需要設計不同規格的掛鉤，既增加了成本，也使得生產制程更為復雜。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種便于固定與取下被承載物品的承載裝置。

還有必要提供一種具有便于固定與取下被承載物品的承載裝置的鍍膜裝置。

一種承載裝置，用于固定鐵磁性物件。所述承載裝置包括支撐柱、設于支撐柱上的承載柱以及與承載柱活動連接的磁性吸附元件。所述吸附元件用于吸附所述鐵磁性物件，以固定所述鐵磁性物件。所述吸附元件可相對于所述承載柱移動，以調節鐵磁性物件相對于所述承載柱的距離。

一種鍍膜裝置，其包括真空室及位于真空室內的鍍膜機臺。所述鍍膜機臺包括用于承載靶材的靶材承載裝置及用于承載鐵磁性基材的基材承載裝置，所述基材承載裝置與靶材承載裝置相對設置。所述基材承載裝置包括支撐柱、設于支撐柱上的承載柱以及與承載柱連接的磁性吸附元件。所述吸附元件用于吸附所述鐵磁性基材，以固定所述鐵磁性基材。

上述承載裝置及鍍膜裝置，通過設置磁性的吸附元件，從而便于固定及取下鐵磁性物件。而且，所述承載裝置通過使吸附元件與承載柱活動連接，從而可以調節鐵磁性物件與承載柱之間的距離。

附圖說明

圖1為一較佳實施方式的鍍膜裝置的結構示意圖。

圖2是圖1中的鍍膜裝置的基材承載裝置的部分分解圖。

主要元件符號說明

具體實施方式

下面將結合附圖，作進一步的詳細說明。

圖1所示為一較佳實施方式的鍍膜裝置100的示意圖。該鍍膜裝置100包括真空室10、位于真空室10內的鍍膜機臺20及與鍍膜機臺20連接的驅動裝置30。該鍍膜裝置100還可以包括抽真空系統、冷卻系統及離子源等(圖未示)。

真空室10用于為鍍膜提供真空環境，以提高鍍膜質量。

鍍膜機臺20包括本體21及設于本體21內的靶材承載裝置22和多個基材承載裝置23。靶材承載裝置22用于承載靶材400。基材承載裝置23與靶材承載裝置22相對設置，用于承載鐵磁性基材500。該基材500可以為鐵、鈷、鎳或鐵、鈷、鎳三者中至少其一的合金，也可為其它鐵磁性材料。在本實施方式中，基材承載裝置23圍設于靶材承載裝置22的周圍。可以理解，基材承載裝置23也可為一個，而不僅限于本實施方式中的多個。

請參閱圖2，基材承載裝置23包括支撐柱24、垂直固定于支撐柱24上的承載柱25及與承載柱25活動連接的磁性吸附元件26。吸附元件26用于吸附鐵磁性基材500，以固定基材500。在本實施方式中，承載柱25上遠離支撐柱24的一端開設有螺孔250，吸附元件26的一端設有外螺紋260，以使吸附元件26螺合于承載柱25的螺孔250內。通過使吸附元件26相對于承載柱25旋轉，可以調節吸附元件26端部到支撐柱24的距離，從而可以調整基材500到靶材400之間的距離。可以理解，吸附元件26也可以與承載柱25以其它方式活動連接，例如凸輪結構。

為了能更精確地調節吸附元件26端部到支撐柱24的距離，吸附元件26上設有調節部262，調節部262與螺紋260之間設有刻度部264。刻度部264上設有沿螺孔250軸向分布的與螺紋260的間距相對應的第一刻度，用于表示吸附元件26相對于承載柱25移動的距離。調節部262上設有沿螺孔250的圓周方向均勻分布的與螺紋260的間距相對應的第二刻度，用于表示調節部262在每兩個第一刻度間的位置，以便更精確地計算吸附元件26相對于承載柱25移動的距離。使用者通過讀取第一刻度與第二刻度，即可知道調節部262相對于承載柱25移動的距離。可以理解，當吸附元件26相對于承載柱25移動的距離不需要非常精確時，可以省略第二刻度。

驅動裝置30用于驅動支撐柱24繞其中心軸線旋轉，以使吸附元件26相對于靶材承載裝置22旋轉，從而使不同吸附元件26上吸附的基材500均可在一定時間內與靶材400相對。可以理解，當基材承載裝置23上僅設有一個吸附元件26時，驅動裝置30可以省略。

另外，基材承載裝置23也可以用于承載其它鐵磁性物件。