[發(fā)明專(zhuān)利]連接結(jié)構(gòu)及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010292007.7 | 申請(qǐng)日: | 2007-04-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101997059A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 清水健博;岡庭香;福島直樹(shù) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 日立化成工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/18;H01L31/02;H01L31/05 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 鐘晶 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 連接 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種連接方法,其為將太陽(yáng)能電池單元的表面電極和配線部件通過(guò)導(dǎo)電性粘接薄膜進(jìn)行電連接的方法,
所述導(dǎo)電性粘接薄膜含有絕緣性粘接劑和導(dǎo)電性粒子,
所述表面電極的與所述導(dǎo)電性粘接薄膜接觸的面的十點(diǎn)平均粗糙度設(shè)定為Rz、最大高度設(shè)定為Ry,
所述導(dǎo)電性粒子的平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大,所述平均粒徑r與所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz的差為1μm以上、Rz以下,且所述導(dǎo)電性粘接薄膜的膜厚t為所述最大高度Ry以上,所述膜厚t與所述最大高度Ry的差為20μm以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接方法,其中,所述膜厚t與所述最大高度Ry的差為10μm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述膜厚t比所述最大高度Ry大1μm以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述膜厚t比所述最大高度Ry大3μm以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述膜厚t比所述最大高度Ry大5μm以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大3μm以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大3μm以上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大5μm以上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r與所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz的差為2/3Rz以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r與所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz的差為2/3Rz以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r與所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz的差為2/3Rz以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r為3~30μm。
13.根據(jù)權(quán)利要求3所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r為3~30μm。
14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r為3~30μm。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r為3~30μm。
16.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述平均粒徑r為8~25μm。
17.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連接方法,其中,所述配線部件為薄膜狀的導(dǎo)電部件。
18.一種導(dǎo)電性粘接薄膜,其為用于將太陽(yáng)能電池單元的表面電極和配線部件進(jìn)行電連接的導(dǎo)電性粘接薄膜,
含有絕緣性粘接劑和導(dǎo)電性粒子,
所述表面電極的與所述導(dǎo)電性粘接薄膜接觸的面的十點(diǎn)平均粗糙度設(shè)定為Rz、最大高度設(shè)定為Ry,
所述導(dǎo)電性粒子的平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大,所述平均粒徑r與所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz的差為1μm以上、Rz以下,且所述導(dǎo)電性粘接薄膜的膜厚t為所述最大高度Ry以上,所述膜厚t與所述最大高度Ry的差為20μm以下。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的導(dǎo)電性粘接薄膜,其中,所述膜厚t與所述最大高度Ry的差為10μm以下。
20.根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的導(dǎo)電性粘接薄膜,其中,所述膜厚t比所述最大高度Ry大1μm以上。
21.根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的導(dǎo)電性粘接薄膜,其中,所述膜厚t比所述最大高度Ry大3μm以上。
22.根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的導(dǎo)電性粘接薄膜,其中,所述膜厚t比所述最大高度Ry大5μm以上。
23.根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的導(dǎo)電性粘接薄膜,其中,所述平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大3μm以上。
24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的導(dǎo)電性粘接薄膜,其中,所述平均粒徑r比所述十點(diǎn)平均粗糙度Rz大3μm以上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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