[發(fā)明專利]采用TiO2陶瓷靶磁控濺射的膜系玻璃結(jié)構(gòu)及方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010286734.2 | 申請日: | 2010-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN101935169A | 公開(公告)日: | 2011-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊桂祥;岳志峰;趙永進(jìn);方志堅 | 申請(專利權(quán))人: | 天津耀皮工程玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 王麗 |
| 地址: | 300409 天津市塘*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 采用 tio sub 陶瓷 磁控濺射 玻璃 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鍍有雙銀層、TiO2為基層的低反射率鍍膜玻璃。由該新型的膜系機構(gòu),使玻璃的光學(xué)性能和熱學(xué)性能達(dá)到最佳的匹配,屬于無機非金屬技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
真空濺射方法用來生產(chǎn)光學(xué)薄膜已經(jīng)有很長的歷史,自20世紀(jì)70年代中期以來,由于磁控濺射的出現(xiàn),大幅度地提高了真空濺射方法的鍍膜速度。90年代以來,用真空磁控濺射生產(chǎn)的低輻射玻璃在歐美發(fā)展很快,其作用是在玻璃表面鍍制可以反射紅外光線的薄膜,從而降低玻璃表面的輻射率,減少玻璃因熱輻射而造成的傳熱損耗,以提高玻璃窗的保溫隔熱能力,這種低輻射玻璃配合雙層中空玻璃使用,可以隔絕玻璃傳導(dǎo)、對流、輻射三種傳熱途徑,為一種非常有實用價值的節(jié)能環(huán)保產(chǎn)品。
市場上現(xiàn)有的雙銀鍍膜低輻射玻璃,普遍高透低反,遮陽系數(shù)較高,從而目前開發(fā)新型雙銀鍍膜低輻射玻璃大都圍繞著降低反射為出發(fā)點,而降低反射的一般做法為利用光的干涉原理,通過膜層中的介質(zhì)層來做到減反的效果。在一些發(fā)明中,還出現(xiàn)了復(fù)合電介質(zhì)層,或在電介質(zhì)層后面再增加復(fù)合吸收層,等等。如:王茂良等人在發(fā)明專利申請公開說明書CN200710045930[1].9中提出了在底層電介質(zhì)層后增加一層厚度為12nm~14nm的NiCr/ZnOx陶瓷的復(fù)合吸收層,此復(fù)合吸收層意在提高對可見光的吸收性。而本發(fā)明的不同在于底層介質(zhì)層的前面與玻璃基片相接觸的為TiO2基層膜,意在降低對可見光的反射;王等人還提出了復(fù)合電介質(zhì)層作為兩層銀的中間電介質(zhì)層,則與本發(fā)明沒有實質(zhì)性區(qū)別,王等人的復(fù)合電介質(zhì)層采用的材料為錫/鋅/氧化鈦,本發(fā)明采用錫/鋅鋁,且厚度相對較薄。
采用真空磁控濺射法生產(chǎn)普通低輻射玻璃的膜層結(jié)構(gòu)一般為:玻璃/底層電介質(zhì)層/銀層/阻擋保護(hù)層/上層電介質(zhì)層。
底層電介質(zhì)層的材料一般為金屬或非金屬的氧化物或氮化物,如:SnO2,ZnO,Nb2O5,Si3N4等;
阻隔保護(hù)層一般為NiCr或者NiCrOX;
上層和中間電介質(zhì)層的材料一般為金屬或非金屬的氧化物或氮化物,如SnO2,ZnO,Nb2O5,Si3N4等;
但是,這種傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的低輻射玻璃,不能同時滿足低遮陽系數(shù)和中低反射的條件,主要是指公共/商用建筑和車輛的側(cè)窗用途。在上述的低輻射產(chǎn)品中,如果要大幅度提高遮陽能力和節(jié)能效果,只能靠增加銀層厚度來實現(xiàn),這會使玻璃的反射率增加,顏色發(fā)生變化,而一般低輻射膜玻璃中的電介質(zhì)在這種情況下,無法有效地調(diào)節(jié)以達(dá)到降低低反射、調(diào)節(jié)顏色的作用。
因為低遮陽系數(shù)往往要求產(chǎn)品有較低的反射率,在降低了遮陽系數(shù)的同時會形成較高的反射率。隨著目前許多國家和地區(qū)為了限制光污染紛紛出臺限制玻璃的可見光反射率法規(guī)。這種結(jié)構(gòu)的低輻射玻璃已經(jīng)越來越達(dá)不到客戶的要求。為了同時滿足低遮陽系數(shù)和中低反射的要求,本企業(yè)發(fā)明了一種采用陶瓷TiO2為基層的雙銀膜系,因TiO2有較高折射率(折射率n=2.35~2.65),根據(jù)光學(xué)干涉原理,可以更有效的降低銀層反射。在以前的一些發(fā)明當(dāng)中,人們也在努力的制造中低透射,低反射的玻璃,例如:發(fā)明專利申請公開說明書CN200710045930[1].9,采取了一種在底層介質(zhì)層后面增加一層復(fù)合吸收層的方式來減少反射。本發(fā)明與舉例中的發(fā)明有著明顯的不同之處,舉例中的發(fā)明是在介質(zhì)層后面增加吸收層,利用的是某些材料的高吸收性;而本發(fā)明是在介質(zhì)層的前面增加陶瓷TiO2基層膜,利用的是TiO2薄膜的特殊光學(xué)性能來達(dá)到減少反射的目的。
此雙銀鍍膜玻璃做到中低透過率時,可以做到較低的反射率。基于此,開發(fā)出了中低遮陽的低反射雙銀鍍膜玻璃新產(chǎn)品。
發(fā)明內(nèi)容
為了同時滿足中低遮陽系數(shù)和低反射的要求,本發(fā)明的目的是提供一種采用陶瓷TiO2膜為基層膜的新型膜系結(jié)構(gòu)玻璃及生產(chǎn)工藝。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種采用TiO2陶瓷靶磁控濺射的膜系玻璃結(jié)構(gòu),該玻璃的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃板向外依次為:
玻璃/TiO2基層/底層電介質(zhì)層/底銀層/底層阻擋保護(hù)層層/中間復(fù)合電介質(zhì)層/頂層銀/頂層阻擋保護(hù)層/上層電介質(zhì)層。
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