[發(fā)明專利]無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體及其制備方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010286609.1
• 申請(qǐng)日: 2010-09-16
• 公開（公告）號(hào): CN102040209A
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金泰映;許弼源;姜尚均
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C01B25/42
• 分類號(hào): C01B25/42
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 金擬粲

1.由式1表示的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體：

<式1>

M_1-aN_aP₂O₇，其中，

M包括四價(jià)金屬元素或四價(jià)類金屬元素，

N包括堿金屬，和

a為0.01～0.7的數(shù)。

2.權(quán)利要求1的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，其中M包括選自以下的至少一種：錫(Sn)、鋯(Zr)、鎢(W)、硅(Si)、鉬(Mo)、和鈦(Ti)。

3.權(quán)利要求1的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，其中N包括選自以下的至少一種：鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)、和銫(Cs)。

4.權(quán)利要求2的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，其中N包括選自以下的至少一種：鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)、和銫(Cs)。

5.權(quán)利要求1或4的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，其中M包括Sn。

6.權(quán)利要求1的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，其中在式1中，a為0.05～0.5的數(shù)。

7.權(quán)利要求1的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，其中所述質(zhì)子導(dǎo)體為選自以下的一種：Sn_0.7Li_0.3P₂O₇、Sn_0.95Li_0.05P₂O₇、Sn_0.9Li_0.1P₂O₇、Sn_0.8Li_0.2P₂O₇、Sn_0.6Li_0.4P₂O₇、Sn_0.5Li_0.5P₂O₇、Sn_0.7Na_0.3P₂O₇、Sn_0.7K_0.3P₂O₇、Sn_0.7Cs_0.3P₂O₇、Zr_0.9Li_0.1P₂O₇、Ti_0.9Li_0.1P₂O₇、Si_0.9Li_0.1P₂O₇、Mo_0.9Li_0.1P₂O₇和W_0.9Li_0.1P₂O₇。

8.由式1表示的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體的制備方法，所述方法包括：

向四價(jià)金屬元素或四價(jià)類金屬元素M前體、堿金屬N前體和磷酸的混合物中添加溶劑以制備組合物；

攪拌所述組合物；和

熱處理該攪拌的組合物以形成式1的無機(jī)質(zhì)子導(dǎo)體，

<式1>

M_1-aN_aP₂O₇，其中，

M包括四價(jià)金屬元素或四價(jià)類金屬元素，

N包括堿金屬，和

a為0.01～0.7的數(shù)。

9.權(quán)利要求8的方法，其中所述攪拌在200℃～300℃的溫度下進(jìn)行。

10.權(quán)利要求8的方法，其中所述熱處理在300℃～1200℃的溫度下進(jìn)行。

11.權(quán)利要求9的方法，其中所述熱處理在300℃～1200℃的溫度下進(jìn)行。

12.權(quán)利要求8或11的方法，其中所述M前體為選自以下的至少一種：氧化錫、氯化錫、氫氧化錫、氧化鎢、氯化鎢、氧化鉬、氯化鉬、氧化鋯、氯化鋯、氫氧化鋯、氧化鈦和氯化鈦。