[發明專利]環狀截面內澆道的底注式澆注系統

有效

• 申請號: 201010284000.0
• 申請日: 2010-09-15
• 公開（公告）號: CN101966559A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 吳文鈐
• 申請（專利權）人: 浙江佳力風能技術有限公司
• 主分類號: B22C9/08
• 分類號: B22C9/08
• 代理公司: 浙江翔隆專利事務所 33206
• 代理人: 胡龍祥

1.環狀截面內澆道的底注式澆注系統，包括型腔（1）和依次相連的總直澆道（2）、橫澆道（3）、分直澆道（4）、分橫澆道（5），其特征是所述的分橫澆道（5）經環狀截面內澆道（6）連至所述型腔（1）的底部。

2.根據權利要求1所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述的型腔（1）形成在型砂（7）與置于型砂（7）中的上泥芯（8）、下泥芯（9）之間。

3.根據權利要求2所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述的環狀截面內澆道（6）形成在所述下泥芯（9）的周圍并被型砂（7）包圍。

4.根據權利要求3所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述的下泥芯（9）呈上大下小的圓臺狀，所述環狀截面內澆道（6）的上端直徑較下端直徑大，且所述環狀截面內澆道（6）的寬度一致。

5.根據權利要求2所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述下泥芯（9）的下端具有一個環形平面（10）并在該環形平面（10）中間形成用于置于所述型砂（7）上的突出部（11），所述的分橫澆道（5）是在所述的型砂（7）上開設橫槽（12）以及連通所述橫槽（12）的環槽（13）并由所述環形平面（10）覆蓋所述橫槽（12）和環槽（13）形成，所述的橫槽（12）鄰接分直澆道（4），所述的環槽（13）鄰接環狀截面內澆道（6）。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述的橫澆道（3）包括第一橫澆道（14）、第二橫澆道（15）、第三橫澆道（16），所述的第一橫澆道（14）鄰接總直澆道（2），所述的第三橫澆道（16）鄰接分直澆道（4），所述的第二橫澆道（15）連通第一橫澆道（14）與第三橫澆道（16），所述的第一橫澆道（14）、第二橫澆道（15）位于同一高度，所述的第三橫澆道（16）位于所述第二橫澆道（15）的下側并在第三橫澆道（16）與第二橫澆道（15）之間置放過濾片（17）。

7.根據權利要求6所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述的第二橫澆道（15）、第三橫澆道（16）的寬度較第一橫澆道（14）寬。

8.根據權利要求6所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是對應所述過濾片（17）的上表面設置分型面（18）。

9.根據權利要求1所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述環狀截面內澆道（6）的最大總截面積為總直澆道（2）截面積的2～4倍。

10.根據權利要求1所述的環狀截面內澆道的底注式澆注系統，其特征是所述型腔（1）的底部為連續的空間。