[發明專利]含溴苯并噻唑類光敏劑及合成與應用無效
| 申請號： | 201010281711.2 | 申請日： | 2010-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN101973958A | 公開（公告）日： | 2011-02-16 |
| 發明（設計）人： | 高放;劉光華;李紅茹;張勝濤;柳猛;牛蘭穎 | 申請（專利權）人： | 重慶大學 |
| 主分類號： | C07D277/64 | 分類號： | C07D277/64;C01B13/02;C07C47/54;C07C45/28 |
| 代理公司： | 重慶大學專利中心 50201 | 代理人： | 郭吉安 |
| 地址： | 400044 *** | 國省代碼： | 重慶;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 含溴苯 噻唑 光敏劑 合成 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種含溴苯并噻唑類光敏劑，其化合物的典型化學結構通式為：
其中R1、R2、R3、R4、R5代表溴原子或氫原子基團，且其中至少一個為溴原子基團。
2.一種制備權利要求1所述的含溴苯并噻唑光敏劑的合成方法，步驟如下：
先將2-甲醛苯并噻唑與溴代苯甲基磷酸二乙酯以摩爾比1∶1.5混合加入到三口的磨口燒瓶中，并加上冷凝裝置；然后用約100ml的四氫呋喃溶劑溶解，加入摩爾比1∶4的堿性催化劑，回流約12小時；第三，冷卻后過濾沉淀，減壓蒸餾除去濾液中的溶劑，用苯和環己烷作洗脫劑，采用硅膠柱分離得到權利要求1的化合物。
反應方程式：
3.一種制備權利要求1的含溴苯并噻唑類光敏劑，其用途是：作為光照產生單重態氧的光敏劑。
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