[發明專利]工藝數據監控方法、裝置及系統有效
| 申請號: | 201010278844.4 | 申請日: | 2010-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN102053575A | 公開(公告)日: | 2011-05-11 |
| 發明(設計)人: | 馬平 | 申請(專利權)人: | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號: | G05B19/048 | 分類號: | G05B19/048;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人: | 蘇培華 |
| 地址: | 100016 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 工藝 數據 監控 方法 裝置 系統 | ||
技術領域
本發明涉及工藝數據監控技術,尤其涉及一種用于監控半導體加工過程中工藝數據變化的工藝數據監控方法、裝置及系統。
背景技術
目前,反映半導體加工工藝發展水平的技術節點正趨于細微化,為使半導體的刻蝕加工精度達到技術節點的要求,各種控制軟件已被應用到相應的設備中,這里的控制軟件主要包括PMC(Process?Module?Controll,工藝模塊控制)軟件、APC(Advanced?Process?Control,先進工藝控制)軟件和CTC(Cluster?Tool?Controlle,簇設備控制)軟件等。
實際應用中,PMC軟件作為底層軟件運行在PMC下位機,APC軟件作為上層軟件運行在為之單獨設置的APC上位機(如單獨一臺計算機),而CTC軟件同樣屬于上層軟件,其運行在起工控機作用且為之單獨設置的CTC上位機;進一步地,基于PMC軟件、APC軟件和CTC軟件所共同約定的以太網相關協議,上述PMC下位機分別連接于APC上位機和CTC上位機,并以此可實現PMC下位機分別與APC上位機、CTC上位機之間的通信。工作過程中,PMC下位機根據CTC上位機所發送的控制消息,通過PMC軟件直接對刻蝕機進行控制,并采集刻蝕機加工半導體過程中隨時間變化的各種工藝數據,如:壓力數據、溫度數據、入射功率數據、反射功率數據、工藝氣體流量數據等;APC上位機則在APC軟件與PMC軟件利用以太網相互通信的基礎上,以預設時間段為時間間隔主動讀取PMC下位機所采集的工藝數據,并以此不斷更新繪制用于反映工藝數據不斷變化的顯示圖像;工藝人員觀察各種工藝數據反映在顯示圖像中變化曲線,并以此判斷刻蝕機的工藝運行狀態,進而保證半導體刻蝕加工過程中的精度。
但由于APC上位機以主動讀取的方式獲取PMC下位機所采集的各種工藝數據,當讀取的數據量較大時,容易使APC上位機對工藝數據的處理難以重負,進而影響整個APC上位機的處理能力。
發明內容
本發明提供一種工藝數據監控方法、裝置及系統,用于解決現有技術中由于APC上位機以主動讀取的方式獲取PMC下位機所采集的各種工藝數據,而影響整個APC上位機的處理能力的技術缺陷。
為了解決上述問題,本發明公開了一種工藝數據監控方法,包括:
讀取監控下位機所采集的工藝數據組,并根據該工藝數據組生成顯示圖像;
接收至少一個更新后工藝數據,并添加至少一個所述更新后工藝數據至所述工藝數據組中,以生成更新后工藝數據組;所述更新后工藝數據為在讀取工藝數據組后,所述監控下位機采集工藝數據過程中所主動上傳的相對于所述工藝數據組所包括工藝數據已發生變化的工藝數據;
根據所述更新后工藝數據組,生成更新后顯示圖像。
進一步地,本發明還公開了一種工藝數據監控裝置,包括:
讀取模塊,用于讀取監控下位機所采集的工藝數據組;
第一生成模塊,用于根據該工藝數據組生成顯示圖像;
接收模塊,用于接收至少一個更新后工藝數據,所述更新后工藝數據為在讀取工藝數據組后,所述監控下位機采集工藝數據過程中所主動上傳的相對于所述工藝數據組所包括工藝數據已發生變化的工藝數據;
添加模塊,用于添加至少一個所述更新后工藝數據至所述工藝數據組中,以生成更新后工藝數據組;
第二生成模塊,用于根據所述更新后工藝數據組,生成更新后顯示圖像。
進一步地,本發明還公開了一種工藝數據監控系統,包括監控上位機和監控下位機,其中,
所述監控上位機用于讀取監控下位機所采集的工藝數據組,并根據該工藝數據組生成顯示圖像;接收至少一個更新后工藝數據,并添加至少一個所述更新后工藝數據至所述工藝數據組中,以生成更新后工藝數據組;所述更新后工藝數據為在讀取工藝數據組后,所述監控下位機采集工藝數據過程中所主動上傳的相對于所述工藝數據組所包括工藝數據已發生變化的工藝數據;根據所述更新后工藝數據組,生成更新后顯示圖像;
所述監控下位機用于采集工藝數據,且將采集工藝數據過程中工藝數據已發生變化的工藝數據主動上傳至監控上位機。
進一步地,本發明還公開了一種半導體加工系統,包括半導體加工設備和半導體控制系統,其中,所述半導體控制系統包括上述工藝數據監控系統。
本發明的工藝數據監控方法、裝置及系統,提供了一種監控上位機接收監控下位機所主動上傳的更新后工藝數據以生成更新后顯示圖像的技術方案,相對于現有技術中主動獲取所采集各種工藝數據以生成更新后顯示圖像的方式,使得監控上位機對更新后工藝數據的處理能力不再受到影響。
附圖說明
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