[發(fā)明專利]鍍膜件及其制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010277218.3
• 申請(qǐng)日: 2010-09-09
• 公開（公告）號(hào): CN102400101A
• 公開（公告）日: 2012-04-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;林順茂
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/14
• 分類號(hào): C23C14/14;C23C14/35
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種鍍膜件及其制備方法。

背景技術(shù)

物理氣相沉積(PVD，Physical?Vapor?Deposition)是指利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將某些有特殊性能(高強(qiáng)度、高耐磨性、高散熱性、高耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的基材上，使得基材具有更好的性能。

低熔點(diǎn)金屬由于其再結(jié)晶溫度低，在PVD工藝中容易再結(jié)晶形成致密層。通過(guò)在基材上沉積低熔點(diǎn)金屬涂層，基材表面可形成一致密的保護(hù)層。但該類低熔點(diǎn)金屬的耐腐蝕能力一般較差。

鉻、鈮、鈦及其合金具有較強(qiáng)的耐腐蝕能力。通過(guò)在基材表面鍍覆鉻、鈮、鈦層是常見的保護(hù)措施。但由于鉻、鈮、鈦及其合金的熔點(diǎn)較高，在PVD工藝的沉積過(guò)程中，鉻、鈮、鈦層容易形成孔洞及柱狀晶結(jié)構(gòu)，因而外界的空氣和水分較易穿過(guò)該鉻、鈮、鈦層朝基材擴(kuò)散，使得基材被腐蝕。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，有必要提供一種耐腐蝕性強(qiáng)的鍍膜件。

另外，還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。

一種鍍膜件，其包括基材、形成于基材表面的若干致密層和若干耐蝕層，該若干致密層和若干耐蝕層交替排布，該致密層為錫或鋁層，該耐蝕層為鉻、鈮、釩、鋯、鈦或錳層。

一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供一基材；

在該基材的表面形成一致密層，該致密層為一錫或鋁層；

在該致密層的表面形成一耐蝕層，該耐蝕層為一鉻、鈮、釩、鋯、鈦或錳層；

重復(fù)上述形成致密層與耐蝕層的步驟，以于基材表面交替形成致密層和耐蝕層。

本發(fā)明采用致密層與耐蝕層多重交替沉積于基材表面的方式制得鍍膜件，使基材表面獲得致密且抗腐蝕性能優(yōu)異的保護(hù)膜層，可有效保護(hù)基材，以及延長(zhǎng)鍍膜件的使用壽命。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的鍍膜件的剖視圖。

主要元件符號(hào)說(shuō)明

鍍膜件????100

基材??????10

致密層????20

耐蝕層????30

具體實(shí)施方式

請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施方式的鍍膜件100包括基材10、形成于基材10表面的若干致密層20和若干耐蝕層30，該若干致密層20和若干耐蝕層30交替排布。本實(shí)施例中，所述若干致密層20和若干耐蝕層30的層數(shù)可分別為2～4層。

該基材10的材質(zhì)可為鋁、鋁合金、鎂或鎂合金。

該若干致密層20可以磁控濺射的方式形成。致密層20可為低熔點(diǎn)金屬層，所述低熔點(diǎn)金屬可為錫或鋁。

該若干耐蝕層30可以磁控濺射的方式形成。耐蝕層30可為高熔點(diǎn)金屬層，所述高熔點(diǎn)金屬可為鉻、鈮、釩、鋯、鈦或錳。

上述每一致密層20和每一耐蝕層30的厚度可分別為0.1～1.0μm。與所述基材10直接相結(jié)合的可以是一致密層20或一耐蝕層30。

本發(fā)明一較佳實(shí)施方式的鍍膜件100的制備方法，其包括如下步驟：

提供一基材10，該基材10的材質(zhì)可為鋁、鋁合金、鎂或鎂合金。

對(duì)該基材10進(jìn)行清洗。清洗步驟可包括常規(guī)的對(duì)基材10進(jìn)行化學(xué)除油、除蠟、水洗及烘干等步驟。

采用磁控濺射法在清洗后的基材10的表面濺鍍一致密層20，該致密層20可為一錫或鋁層。濺鍍?cè)撝旅軐?0在所述磁控濺射鍍膜機(jī)中進(jìn)行。使用金屬錫靶及鋁靶中的一種為靶材，以氬氣為工作氣體，氬氣流量可為100～500sccm，鍍膜室的溫度可為25～200℃。該致密層20的厚度可為0.1～1.0μm。

繼續(xù)采用磁控濺射法在所述致密層20的表面濺鍍一耐蝕層30，該耐蝕層30可為一鉻、鈮、釩、鋯、鈦或錳層。使用金屬鉻靶、鈮靶、釩靶、鋯靶、鈦靶及錳靶中的一種為靶材，以氬氣為工作氣體，氬氣流量可為100～500sccm，鍍膜室的溫度可為25～200℃。該耐蝕層30的厚度可為0.1～1.0μm。

參照上述步驟，重復(fù)交替濺鍍致密層20和耐蝕層30。交替濺鍍的次數(shù)總共可為2～4次。

可以理解，所述致密層20和耐蝕層30沉積在基材10上的順序可以相互置換。

本發(fā)明采用致密層20與耐蝕層30多重交替沉積于基材10表面的方式制得鍍膜件100，使基材10表面獲得致密且抗腐蝕性能優(yōu)異的保護(hù)膜層，可有效保護(hù)基材10，以及延長(zhǎng)鍍膜件100的使用壽命。