[發(fā)明專利]背光模組、顯示裝置及擴(kuò)散片的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010276470.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-08-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101963314A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 童雨舟;汪麗霞;汪玲玲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 友達(dá)光電(蘇州)有限公司;友達(dá)光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | F21S8/00 | 分類號(hào): | F21S8/00;F21V5/02;F21V5/08;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215021 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 背光 模組 顯示裝置 擴(kuò)散 制造 方法 | ||
1.一種背光模組,其包括導(dǎo)光板和復(fù)數(shù)片光學(xué)膜片,該導(dǎo)光板具有出光面,該些光學(xué)膜片設(shè)置于該出光面一側(cè),其特征在于,該些光學(xué)膜片包括:
擴(kuò)散片,該擴(kuò)散片一體成型且包括上擴(kuò)散片和下擴(kuò)散片,該擴(kuò)散片彎折設(shè)置使該上擴(kuò)散片和該下擴(kuò)散片平行相對(duì)并形成容置空間;以及
棱鏡片,夾持于該容置空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于:該上擴(kuò)散片具有第一亮面和第一霧面,該下擴(kuò)散片具有第二亮面和第二霧面,該第二霧面抵接于該導(dǎo)光板的出光面,該第二亮面與該第一霧面相對(duì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于:該擴(kuò)散片的兩端及該彎折處皆具有凸耳。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的背光模組,其特征在于:該背光模組還包括框架,該框架具有多個(gè)凹槽,該些凸耳與該些凹槽配合以固定該些光學(xué)膜片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于:該第一霧面單位面積包含的擴(kuò)散粒子個(gè)數(shù)少于或等于該第二霧面單位面積包含的擴(kuò)散粒子個(gè)數(shù)。
6.一種顯示裝置,其特征在于:包含如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的背光模組。
7.一種擴(kuò)散片的制造方法,其特征在于,該制造方法包括:
第一步驟:提供基帶,該基帶具有第一表面和第二表面;
第二步驟:將該第一表面沿該基帶的長(zhǎng)度方向分為第一亮面印制面和第二霧面印制面;
第三步驟:將該第二表面沿該基帶的長(zhǎng)度方向分為第一霧面印制面和第二亮面印制面,該第一亮面印制面與該第一霧面印制面寬度相等且相對(duì)應(yīng),該第二亮面印制面與該第二霧面印制面寬度相等且相對(duì)應(yīng);
第四步驟:于該第一亮面印制面進(jìn)行亮面印制,同時(shí)于該第二霧面印制面進(jìn)行霧面印制;
第五步驟:于該第一霧面印制面進(jìn)行霧面印制,同時(shí)于該第二亮面印制面進(jìn)行亮面印制;
第六步驟:完成該基帶的第一表面和第二表面的印制后,沿垂直于該基帶的方向裁切該基帶形成擴(kuò)散片,且該第一亮面與該第一霧面形成上擴(kuò)散片,該第二亮面與該第二霧面形成下擴(kuò)散片。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法,其特征在于:該制造方法進(jìn)一步包含第七步驟:于該擴(kuò)散片的兩端裁切出多個(gè)凸耳。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法,其特征在于:該第一霧面單位面積包含的擴(kuò)散粒子個(gè)數(shù)少于或等于該第二霧面單位面積包含的擴(kuò)散粒子個(gè)數(shù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法,其特征在于:該第一亮面印制面與該第二霧面印制面之間具有間距。
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