[發(fā)明專利]涂敷顯影裝置和涂敷顯影方法

有效

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• 申請日: 2010-08-24
• 公開（公告）號: CN101996867A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 松岡伸明
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;H01L21/68;G03F7/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種涂敷顯影裝置，其將利用載體搬入到載體塊的基板交接至處理部，在由所述處理部形成包含抗蝕劑膜的涂敷膜之后，經(jīng)由接口塊搬送至曝光裝置，由所述處理部對經(jīng)由所述接口塊送回的曝光后的基板進(jìn)行顯影處理，并交接至所述載體塊，該涂敷顯影裝置的特征在于：

具有液體處理單元，

該液體處理單元包括：使用藥液對基板進(jìn)行液體處理的液體處理部；

與所述液體處理部對應(yīng)設(shè)置，對基板進(jìn)行冷卻處理的冷卻處理部；和

與所述冷卻處理部對應(yīng)設(shè)置，對基板進(jìn)行加熱處理的加熱處理部，

所述冷卻處理部具有在其與所述液體處理部之間以及與所述加熱處理部之間搬送基板的基板搬送功能。

2.如權(quán)利要求1所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述冷卻處理部與所述液體處理部相鄰，

所述加熱處理部與所述冷卻處理部相鄰。

3.如權(quán)利要求2所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述液體處理部、所述冷卻處理部和所述加熱處理部依次排列在一條直線上。

4.如權(quán)利要求3所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

具有多個所述液體處理單元。

5.如權(quán)利要求4所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

多個所述液體處理單元在同一平面內(nèi)并排配置。

6.如權(quán)利要求4或5所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

多個所述液體處理單元上下重疊配置。

7.如權(quán)利要求1～6中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述加熱處理部具有保持基板并對其進(jìn)行加熱處理的多個熱板，

所述熱板上下重疊配置。

8.如權(quán)利要求1～7中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述冷卻處理部具有保持基板并對其進(jìn)行冷卻處理的冷卻板，

所述冷卻板在其與所述液體處理部之間以及與所述加熱處理部之間進(jìn)行基板的交接。

9.如權(quán)利要求1～7中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述冷卻處理部具有保持基板并對其進(jìn)行冷卻處理的冷卻板，和保持基板的保持板，

所述冷卻板在其與所述加熱處理部之間進(jìn)行基板的交接，所述保持板在其與所述液體處理部之間進(jìn)行基板的交接。

10.如權(quán)利要求8或9所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述冷卻板設(shè)置為在所述液體處理單元的所述液體處理部、所述冷卻處理部和所述加熱處理部排列的方向以及上下方向能夠移動。

11.如權(quán)利要求1～10中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述液體處理單元具有切換成多種藥液的任一種并將其供給至所述液體處理部的藥液供給部。

12.如權(quán)利要求11所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述藥液供給部具有與所述多種藥液對應(yīng)設(shè)置的多個噴嘴。

13.如權(quán)利要求1～6中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

具有前處理單元，其與所述液體處理單元對應(yīng)設(shè)置，對在所述液體處理單元進(jìn)行處理的基板進(jìn)行前處理。

14.如權(quán)利要求1～13中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

具有后處理單元，其與所述液體處理單元對應(yīng)設(shè)置，對在所述液體處理單元中進(jìn)行了處理的基板進(jìn)行后處理。

15.如權(quán)利要求1～14中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于，包括：

將基板搬入搬出所述液體處理單元的搬入搬出單元；和

在所述液體處理單元的所述搬入搬出單元側(cè)，在與所述液體處理單元之間進(jìn)行基板的交接的第一緩沖單元。

16.如權(quán)利要求15中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

在所述液體處理單元的所述搬入搬出單元的相反側(cè)，具有在與所述液體處理單元之間進(jìn)行基板的交接的第二緩沖單元。

17.如權(quán)利要求1～16中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述液體處理部對基板進(jìn)行藥液的涂敷處理。

18.如權(quán)利要求1～16中任一項所述的涂敷顯影裝置，其特征在于：

所述液體處理部使用顯影液對基板進(jìn)行顯影處理。