[發明專利]疏水化處理裝置、疏水化處理方法以及存儲介質

有效

• 申請號: 201010262548.5
• 申請日: 2010-08-24
• 公開（公告）號: CN101996859A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 新村聰;福岡哲夫;北野高廣
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種疏水化處理裝置，其特征在于，

該疏水化處理裝置包括：

氣化面形成部，其表面位于氣化室內；

氣化面加熱部件，其用于加熱上述氣化面形成部；

藥液供給口，其用于將疏水化處理用的藥液供給到上述氣化面形成部的表面上；

氣體導入口，其用于將載氣導入上述氣化室內；

引出口，其用于引出在上述氣化室內被氣化了的疏水化氣體；

處理容器，其用于利用自上述引出口供給的疏水化氣體對被載置在該處理容器內部的基板進行疏水化處理。

2.根據權利要求1所述的疏水化處理裝置，其特征在于，

上述氣化室被設在上述處理容器的頂板上。

3.根據權利要求1或2所述的疏水化處理裝置，其特征在于，

上述氣化面形成部形成為隨著向下方去而逐漸變寬的形狀，上述藥液供給口位于上述氣化面形成部的上方側。

4.根據權利要求3所述的疏水化處理裝置，其特征在于，

在上述氣化面形成部上形成有用于使藥液利用毛細管現象擴散的槽部。

5.根據權利要求1或2所述的疏水化處理裝置，其特征在于，

該疏水化處理裝置具有氣體加熱部件，在將上述載氣導入氣化室之前，利用該氣體加熱部件加熱上述載氣。

6.根據權利要求1或2所述的疏水化處理裝置，其特征在于，

該疏水化處理裝置還包括：濃度檢測部，其用于檢測自上述引出口引出的疏水化氣體的濃度；控制部，其根據該濃度檢測部的檢測值輸出控制信號，以增加自藥液供給口供給到氣化室中的藥液的供給流量。

7.根據權利要求6所述的疏水化處理裝置，其特征在于，

在即使增加了藥液的供給流量而濃度檢測部的檢測值仍低于規定值時，上述控制部輸出控制信號，以升高氣化面加熱部件的加熱溫度。

8.一種疏水化處理方法，其特征在于，

該疏水化處理方法包括下述工序：

利用氣化面加熱部件加熱氣化面形成部的工序，該氣化面形成部的表面位于氣化室內；

利用藥液供給口將疏水化處理用的藥液供給到上述氣化面形成部的表面上的工序；

自氣體導入口將載氣導入上述氣化室內的工序；

自引出口引出在上述氣化室內被氣化了的疏水化氣體的工序；

將基板載置在處理容器內的工序；

利用自上述引出口供給的疏水化氣體對基板進行疏水化處理的工序。

9.根據權利要求8所述的疏水化處理方法，其特征在于，

該疏水化處理方法還包括在上述氣化面形成部上形成槽部且利用毛細管現象使藥液在上述槽部中擴散的工序。

10.根據權利要求8或9所述的疏水化處理方法，其特征在于，

該疏水化處理方法還包括在將上述載氣導入氣化室之前利用氣體加熱部件加熱該載氣的工序。

11.根據權利要求8或9所述的疏水化處理方法，其特征在于，

該疏水化處理方法還包括下述工序：

利用濃度檢測部檢測自上述引出口引出的疏水化氣體的濃度的工序；

根據該濃度檢測部的檢測值增加自藥液供給口供給到氣化室中的藥液的供給流量的工序。

12.根據權利要求11所述的疏水化處理方法，其特征在于，

該疏水化處理方法還包括在即使增加了藥液的供給流量而濃度檢測部的檢測值仍低于規定值時升高氣化面加熱部件的加熱溫度的工序。

13.一種存儲介質，其存儲有疏水化處理裝置所用的計算機程序，該疏水化處理裝置用于將疏水化氣體供給到處理容器內的基板上，其特征在于，

在上述程序中編有用于執行疏水化處理方法的步驟組，該疏水化處理方法是權利要求8～12中任一項所述的疏水化處理方法。