[發(fā)明專利]鍍膜加工方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010262473.0
• 申請日: 2010-08-25
• 公開（公告）號: CN102373408A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王仲培
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鍍膜加工，尤其涉及在工件表面對所鍍的膜層進(jìn)行加工以形成預(yù)定圖案的方法。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，在工件表面加工以形成圖案的方法通常是將預(yù)定的圖案區(qū)域之外掩蓋，然后直接對該預(yù)定的圖案區(qū)域進(jìn)行鍍膜。然而，由于遮蓋非圖案區(qū)域的遮罩具有一定的厚度，因此當(dāng)對圖案區(qū)域鍍膜之后，因此遮罩的厚度導(dǎo)致部份反應(yīng)微粒附著，從而導(dǎo)致圖案的邊緣不清晰且整個圖案的厚度不均。邊緣不清晰在高倍顯微鏡下表現(xiàn)得邊緣模糊，即，圖案精度太低，尤其是當(dāng)待鍍表面形狀復(fù)雜時，更難形成高精度圖案。圖案厚度不均則會引起圖案的物理性質(zhì)不良，例如硬度及耐磨度變差。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，提供一種高精度鍍膜加工方法。

一種鍍膜加工方法，包括以下步驟：提供一個工件，該工件具有一個待加工形成圖案的第一表面；提供一個遮罩，該遮罩的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩與該工件可磁性相吸；將該遮罩吸附于該第一表面并遮蔽該第一表面的預(yù)定區(qū)域；在該第一表面、于該預(yù)定區(qū)域之外涂布一遮蔽層；去除該遮罩；采用物理氣相沉積法于該第一表面沉積一膜層，該膜層覆蓋該遮蔽層以及該預(yù)定區(qū)域；利用該遮罩覆蓋該預(yù)定區(qū)域的膜層；去除該預(yù)定區(qū)域之外的膜層及該遮蔽層；去除該遮罩以于該第一表面獲得該圖案。

相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所提供的鍍膜加工方法是先將圖案區(qū)域遮蔽，在待形成圖案的表面除該圖案區(qū)域之外涂布遮蔽層，然后對該表面整體沉積膜層，最后去除除該圖案區(qū)域以外的膜層及遮蔽層，所以可以最大限度地保證膜層厚度的均勻性，使得圖案的物理性質(zhì)較佳。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實施例提供的鍍上遮蔽層的工件的剖視圖。

圖2是對圖1所示的工件去除遮罩并鍍上膜層后的示意圖。

圖3是對圖2所示的工件的預(yù)定區(qū)域加上遮罩的示意圖。

圖4是圖3所示的工件去除了被遮蔽區(qū)域之外的膜層及遮蔽層后的示意圖。

圖5是已將遮罩去除、顯現(xiàn)圖案的工件的示意圖。

圖6是本發(fā)明實施例提供的掛具的使用狀態(tài)示意圖。

主要元件符號說明

工件????????????????????????10

第一表面????????????????????101

遮罩????????????????????????30

遮蔽層??????????????????????40

預(yù)定區(qū)域????????????????????103

膜層????????????????????????50

圖案????????????????????????60

掛具????????????????????????70

連接桿??????????????????????72

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

請參閱圖1及圖2，本發(fā)明實施例提供的鍍膜加工方法至少包括以下步驟：

首先，提供一個工件10，該工件10具有一個待加工形成圖案的第一表面101。該工件10由可被磁性物質(zhì)吸引的金屬或合金制成，具體地，該工件10可由金屬制成，如鐵、鎳；或由含有金屬的合金制成，例如不銹鋼。

然后，提供一個遮罩30，該遮罩30的形狀與待形成的圖案的形狀相同。該遮罩可與該工件磁性相吸。例如，該遮罩30具有較強(qiáng)的磁性，該工件10由可被磁性物質(zhì)吸引的金屬或合金制成。將該遮罩30吸附于該第一表面101并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預(yù)定區(qū)域。由于該遮罩30與該工件10可磁性相吸，所以該遮罩可以方便快捷地吸附、固定在該第一表面101而不會在后續(xù)流程中移動位置，從而最大限度地保證圖案的精度。圖案可以是文字、圖形、數(shù)字、字母等各種標(biāo)記。

將該遮罩30吸附于該第一表面101并遮蔽該第一表面101的預(yù)定區(qū)域103，該預(yù)定區(qū)域103為圖案所在區(qū)域。

在該第一表面101、于該預(yù)定區(qū)域103之外涂布一遮蔽層40。遮蔽層40的成分可以是油墨，或者光阻材料。遮蔽層40可減小后續(xù)步驟中的膜層和第一表面101之間的結(jié)合力，從而較容易去除不必要的膜層。