[發明專利]用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質虛擬量測方法與系統無效
| 申請號: | 201010262322.5 | 申請日: | 2010-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN101976045A | 公開(公告)日: | 2011-02-16 |
| 發明(設計)人: | 陳山;潘天紅;盛碧琦 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | G05B13/04 | 分類號: | G05B13/04;H01L21/66 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 樓高潮 |
| 地址: | 212013 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 tft lcd 蝕刻 面板 品質 虛擬 方法 系統 | ||
技術領域
本發明涉及一種用于預測薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)制程的面板品質虛擬量測方法及其系統,特別是一種應用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質虛擬量測方法及其系統。
背景技術
目前,在TFT-LCD的前段制程中,蝕刻制程是在以光阻劑部份覆蓋在要保留的薄膜上,并曝光顯影后,用物理或化學的方式將之去除的制程,以形成所需要的圖案。蝕刻制程依照蝕刻精度、蝕刻手段及目的的不同可分為:濕式蝕刻法及干式蝕刻法兩大種類。其中,干式蝕刻法包含了電漿蝕刻法,以及反應性離子蝕刻法;而濕蝕刻則是使用各種化學溶液,經由與被露出的薄膜產生化學反應以達到蝕刻的目的。蝕刻技術的好壞決定電路的關鍵尺寸(CD),故在蝕刻制程完成之后,會進行蝕刻后檢視,以判斷蝕刻過程中是否有變異發生,確保面板生產過程的良率。
目前,基于成本的考慮,大部份TFT-LCD的制程對于生產機臺的面板品質檢測方法都采用抽樣檢查的方式,即每天對該機臺抽樣1~3個同一規格的面板產品,以便監測生產的質量是否穩定,從而決定面板產品的質量。然而,若面板在制造的過程中出現問題,就必須等待檢測時才會發現,而此時出現問題的生產機臺可能已經產出多批不良品。因此,從制程的操作變量發生變化到面板質量出現問題,便會有一定的時間落后。所以,如何在最短的時間內發現面板的質量是否出現問題,便是面板制造商面臨的主要問題之一。為了提高機臺的生產效率,多數的生產線同時都會有多種不同規格的面板同時生產,常規的抽樣量測方法通常是會對每種面板進行抽樣,這無疑會增加檢測的工作量,延長面板的生產時間。因此,如何降低抽檢的成本,提高抽檢效率,同樣也是面板廠商面臨的主要問題之一。
虛擬量測(VM)技術是解決上述問題的主要手段之一,其基本概念是利用大量的可以在線測量的過程變量,如先進制程控制數據(APC)去估計生產面板的質量,以便于在生產機臺發生異常時能及時發現,并且同時鑒別出不良品,以節約后續制程的能源,并提高生產的良率。然而,APC系統的數據量龐大,且某些變量存在強烈的相關性,傳統的處理方法是采用統計回歸的方法,而其中應用最多的,就是主成分回歸分析(PCR)與部分最小平方(PLS)方法。但對于PCR/PLS方法來說,它是將數據壓縮之后來取代原始變量,以致于現場工程師無法理解各個變量對面板質量的影響,也無法找到發生變異的關鍵因素。因此,為了能更好地了解或掌握生產系統,以有物理意義的變量來建立預估模型無疑是非常有利的。這些有物理意義的變量對系統的故障診斷,以及提高系統的運行效率都是很有參考價值的。另外,在TFT-LCD制程中存在很多的不可測的變量,比如在TFT-LCD的蝕刻制程中,蝕刻液的實際消耗量或蝕刻液中離子的濃度等,皆無法精確的量測。然而這些變量卻會直接影響蝕刻制程后面板的最終關鍵尺寸值。因此,在虛擬量測系統中必須考慮這些因素的影響,來提高預估精度。
現有的應用于半導體制程的“Method?of?monitoring?and/or?controlling?a?semiconductormanufacturing?apparatus?and?a?system”(美國專利第6616759號),提出了一種基于PLS方法而計算出制程新的參數設定值,此方法并不能讓工程師理解各個變量對面板質量的影響;而應用于半導體晶圓溫度預測的“Method?for?predicting?temperature,test?wafer?for?use?intemperature?prediction?and?method?for?evaluating?lamp?heating?system”(美國專利第6666577號),則提出了一種預測晶圓制程溫度的方法,此方法只能適用于特定種類的機臺,缺乏通用性。中國專利申請號為200610108408.6、名稱為“半導體制造的虛擬量測預估與建立預估模型的方法與系統”公開一種建立預估模型的方法,此方法建立多個預估模型,并用相關指標選擇最佳模型,但其缺陷是:若多個預估的相關指標都低于給定閾值時,系統會出現無輸出值。中國專利申請號為200610149890.8、名稱為“量測方法以及虛擬量測系統”提出一種基于類神經網絡建立虛擬量測模型的方法,其缺陷是:模型的訓練時間長,模型的結構復雜,且容易出現局部最優的現象。
發明內容
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