[發(fā)明專利]用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質(zhì)虛擬量測(cè)方法與系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010262322.5
• 申請(qǐng)日: 2010-08-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101976045A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-02-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳山;潘天紅;盛碧琦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇大學(xué)
• 主分類號(hào): G05B13/04
• 分類號(hào): G05B13/04;H01L21/66
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 樓高潮

1.一種用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質(zhì)虛擬量測(cè)方法，其特征是采用如下步驟：

1)先進(jìn)制程控制單元(120)獲取至少一制程機(jī)臺(tái)(110)的制程參數(shù)資料值(131)后，原始數(shù)據(jù)處理單元(130)將各制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)先減去制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)的平均值，再除以制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)的標(biāo)準(zhǔn)偏差；

2)量測(cè)機(jī)臺(tái)(190)獲取抽樣量測(cè)加工后的面板品質(zhì)量測(cè)值(192)，面板品質(zhì)數(shù)據(jù)處理單元(191)將抽樣的面板品質(zhì)量測(cè)值(192)先減去面板品質(zhì)量測(cè)值(192)的平均值，再除以面板品質(zhì)量測(cè)值(192)的標(biāo)準(zhǔn)偏差；

3)關(guān)鍵參數(shù)挑選單元(140)以逐步回歸的方式從制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)中挑選關(guān)鍵制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(141)，且當(dāng)制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)其中之一的偏F值大于且進(jìn)入閾值時(shí)，則該制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)被設(shè)定為關(guān)鍵制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(141)；

4)線性模型預(yù)估單元(150)根據(jù)關(guān)鍵制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(141)及其對(duì)應(yīng)的實(shí)際面板品質(zhì)量測(cè)值(192)的關(guān)系，以線性最小二乘算法建立初始預(yù)估模型(151)；

5)在初始預(yù)估模型(151)的基礎(chǔ)上將同一配方下誤差的總變動(dòng)量，依產(chǎn)品種類解成不同的部份，再以假設(shè)檢定的方法來(lái)判斷這些產(chǎn)品因素是否確實(shí)能解釋資料的變動(dòng)，多產(chǎn)品效益處理單元(160)根據(jù)同一配方下各個(gè)面板的產(chǎn)品效益產(chǎn)生初始多產(chǎn)品預(yù)估模型(161)；

6)干擾項(xiàng)系數(shù)處理單元(170)根據(jù)關(guān)鍵制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(141)，由初始多產(chǎn)品預(yù)估模型(161)得到估計(jì)值，并計(jì)算該估計(jì)值與各估計(jì)值所對(duì)應(yīng)的實(shí)際面板品質(zhì)量測(cè)值(192)之間的誤差值，以時(shí)間序列回歸算法處理該誤差值，產(chǎn)生干擾項(xiàng)系數(shù)(171)后建立虛擬量測(cè)模型單元(180)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質(zhì)虛擬量測(cè)方法，其特征是：步驟3)中關(guān)鍵參數(shù)挑選單元(140)從制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)中挑選與面板品質(zhì)量測(cè)值(192)最相關(guān)的關(guān)鍵制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(141)時(shí)，先在所有的制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)中尋找出對(duì)最終面板品質(zhì)最大的偏F值，再將其加入模型中形成第一模型(210)，再將剩下的制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)個(gè)別加入第一模型(210)中計(jì)算其偏F值，確定該制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)是否大于進(jìn)入閾值，然后挑選出最大的偏F值加入模型中形成第二模型(220)，當(dāng)?shù)诙Ｐ?220)中的制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)超過(guò)3個(gè)后，將其個(gè)別移出第二模型(220)看其偏F值是否有小于剔除閾值，然后挑選出偏F值最小的制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)予以刪除后再繼續(xù)加入其他制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)，如此一直執(zhí)行直至達(dá)到設(shè)定所需的制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)個(gè)數(shù)后，或當(dāng)剩下的制程參數(shù)數(shù)據(jù)值(131)個(gè)別加入模型都小于進(jìn)入閾值時(shí)即停止。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質(zhì)虛擬量測(cè)方法，其特征是：由公式y(tǒng)＝α+β₁x₁+ε、y＝α+β₁x₁+β₂x₂+ε先計(jì)算面板品質(zhì)的估計(jì)值，并根據(jù)實(shí)際的面板品質(zhì)量測(cè)值(192)，由公式得到回歸的平方和SSR(1)、SSR(2)以及殘差平方和MSE(1)，再由公式算出偏F值；

公式中：為面板的品質(zhì)，為制程參數(shù)數(shù)據(jù)值，為第二模型參數(shù)，ε為預(yù)估誤差，N為量測(cè)面板的個(gè)數(shù)，為估計(jì)的模型系數(shù)，p是估計(jì)的模型系數(shù)的個(gè)數(shù)，p＝3。

4.一種用于TFT-LCD蝕刻制程的面板品質(zhì)虛擬量測(cè)系統(tǒng)，包含一制程機(jī)臺(tái)(110)、一先進(jìn)制程控制單元(120)和一量測(cè)機(jī)臺(tái)(190)、制程機(jī)臺(tái)(110)的輸出連接先進(jìn)制程控制單元(120)的輸入，其特征是：先進(jìn)制程控制單元(120)的輸出連接原始數(shù)據(jù)處理單元(130)的輸入，原始數(shù)據(jù)處理單元(130)的輸出連接關(guān)鍵參數(shù)挑選單元(140)的輸入，關(guān)鍵參數(shù)挑選單元(140)的輸出連接線性模型預(yù)估單元(150)的輸入，線性模型預(yù)估單元(150)的輸出連接多產(chǎn)品效益處理單元(160)的輸入，多產(chǎn)品效益處理單元(160)的輸出連接干擾項(xiàng)系數(shù)處理單元(170)的輸入，干擾項(xiàng)系數(shù)處理單元(170)的輸出連接虛擬量測(cè)模型單元(180)的輸入；所述量測(cè)機(jī)臺(tái)(190)的輸出連接面板品質(zhì)數(shù)據(jù)處理單元(191)的輸入，面板品質(zhì)數(shù)據(jù)處理單元(191)的輸出連接多產(chǎn)品效益處理單元(160)的輸入；將干擾項(xiàng)系數(shù)處理單元(170)與關(guān)鍵參數(shù)挑選單元(140)相連。