[發(fā)明專利]磁尺的制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010260912.4 | 申請(qǐng)日: | 2007-03-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101936750A | 公開(公告)日: | 2011-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 野口直之;森山克也;王瀧輝彥;有賀英吉;溝口敏夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本電產(chǎn)三協(xié)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01D5/12 | 分類號(hào): | G01D5/12;G01R33/038;H01F7/02;H01F41/02 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 侯穎媖 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 方法 | ||
1.一種磁尺的制造方法,所述磁尺具備N極與S極交替排列的軌道在寬度方向并列多條軌道、并在相鄰的軌道之間N極與S極的位置在所述軌道的相對(duì)移動(dòng)方向偏移的永磁體,其特征在于,包括:
對(duì)應(yīng)該構(gòu)成所述永磁體的磁體原料磁化以使N極與S極在所述軌道的相對(duì)移動(dòng)方向交替排列的第1磁化工序;以及
使相鄰的軌道之間的N極與S極的位置在所述軌道的相對(duì)移動(dòng)方向偏移、將在所述第1磁化工序中賦予所述磁體原料的磁極的一部分重新磁化的第2磁化工序。
2.如權(quán)利要求1所述的磁尺的制造方法,其特征在于,
在對(duì)所述磁體原料進(jìn)行磁化時(shí),進(jìn)行磁極僅面對(duì)著該磁體原料的正反方向的各向異性磁化。
3.如權(quán)利要求1所述的磁尺的制造方法,其特征在于,
在所述磁體原料的背面重疊襯底層之后,對(duì)該磁體原料進(jìn)行所述磁化工序,形成所述永磁體,在進(jìn)行了該磁化工序之后,在所述永磁體的表面形成保護(hù)層。
4.一種磁尺的制造方法,所述磁尺具備N極與S極交替排列的軌道在寬度方向并列多條軌道、并在相鄰的軌道之間的N極與S極的位置在所述軌道的相對(duì)移動(dòng)方向偏移的永磁體,其特征在于,包括:
對(duì)應(yīng)該構(gòu)成所述永磁體的磁體原料配置磁化頭進(jìn)行多極磁化,以使在所述永磁體的寬度方向,使N極的位置與S極的位置在相對(duì)移動(dòng)方向偏移的磁化工序。
5.如權(quán)利要求4所述的磁尺的制造方法,其特征在于,
在對(duì)所述磁體原料進(jìn)行磁化時(shí),進(jìn)行磁極僅面對(duì)著該磁體原料的正反方向的各向異性磁化。
6.如權(quán)利要求4所述的磁尺的制造方法,其特征在于,
在所述磁體原料的背面重疊襯底層之后,對(duì)該磁體原料進(jìn)行所述磁化工序,形成所述永磁體,在進(jìn)行了該磁化工序之后,在所述永磁體的表面形成保護(hù)層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本電產(chǎn)三協(xié)株式會(huì)社,未經(jīng)日本電產(chǎn)三協(xié)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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G01D 非專用于特定變量的測(cè)量;不包含在其他單獨(dú)小類中的測(cè)量?jī)蓚€(gè)或多個(gè)變量的裝置;計(jì)費(fèi)設(shè)備;非專用于特定變量的傳輸或轉(zhuǎn)換裝置;未列入其他類目的測(cè)量或測(cè)試
G01D5-00 用于傳遞傳感構(gòu)件的輸出的機(jī)械裝置;將傳感構(gòu)件的輸出變換成不同變量的裝置,其中傳感構(gòu)件的形式和特性不限制變換裝置;非專用于特定變量的變換器
G01D5-02 .采用機(jī)械裝置
G01D5-12 .采用電或磁裝置
G01D5-26 .采用光學(xué)裝置,即應(yīng)用紅外光、可見光或紫外光
G01D5-42 .采用流體裝置
G01D5-48 .采用波或粒子輻射裝置
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