[發明專利]鍍膜加工方法

無效

• 申請號: 201010258983.0
• 申請日: 2010-08-20
• 公開（公告）號: CN102373407A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/58
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及鍍膜加工方法，尤其涉及在薄膜沉積后的表面形成預定圖案的方法。

背景技術

傳統的鍍膜技術領域，在工件表面加工以形成圖案的方法通常是將預定的圖案區域之外掩蓋，而直接對該預定的圖案區域進行鍍膜。然，由于遮蓋非圖案區域的遮罩具有一定的厚度，因此當對圖案區域鍍膜之后，因此遮罩的厚度導致部分反應微粒附著，從而導致圖案的邊緣不清晰且整個圖案的厚度不均。邊緣不清晰在高倍顯微鏡下表現得邊緣模糊，即，圖案精度太低，尤其是當待鍍表面形狀復雜時，更難形成高精度圖案。圖案厚度不均則會引起圖案的物理性質不良，例如硬度及耐磨度變差。

發明內容

有鑒于此，提供一種高精度鍍膜加工方法實為必要。

一種鍍膜加工方法，其包括以下步驟：提供一個工件，該工件具有一個待加工形成圖案的第一表面；采用物理氣相沉積法對該第一表面沉積一膜層；提供一遮罩，該遮罩的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩與該工件可磁性相吸；將該遮罩吸附于該第一表面并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預定區域；利用磁力研磨去除該第一表面的該預定區域之外的膜層；去除該遮罩以于該工件的第一表面獲得該圖案。

相對于現有技術，本發明采用的鍍膜加工方法是在物理氣相沉積鍍膜的基礎上采用遮罩遮住圖案區域，并對非圖案區域進行磁力研磨，從而避免直接對圖案區域鍍膜時所發生的圖案邊緣不清晰、產生暈影的缺陷，而且，由于采用磁力研磨可以對圖案的邊緣之外的區域進行精確的研磨，從而進一步提高圖案的邊緣的清晰度。由于先對圖案所在的表面均沉積薄膜，所以可以最大限度地保證膜層厚度的均勻性，從而圖案的物理性質較佳。

附圖說明

圖1是本發明實施例提供的鍍過膜的工件的立體示意圖。

圖2是本發明實施例提供的吸附有遮罩的鍍過膜的工件的立體示意圖。

圖3是已將非圖案區域的膜層研磨、去除之后、顯現該圖案的工件的立體示意圖。

主要元件符號說明

工件????????10

第一表面????101

膜層????????20

遮罩????????30

圖案????????40

具體實施方式

下面將結合附圖對本發明作進一步詳細說明。

請參閱圖1，本發明實施例提供的鍍膜加工方法至少包括以下步驟：

首先，提供一個工件10，該工件10具有一個第一表面101。該工件10由可被磁性物質吸引的金屬或合金制成，具體地，該工件10可由金屬制成，如鐵、鎳；或由含有金屬的合金制成，例如不銹鋼。

其次，采用物理氣相沉積法(Physical?Vapor?Deposition，PVD)對該第一表面101沉積一膜層20。物理氣相沉積法是以物理機制來進行薄膜沉積而不涉及化學反應的制程技術，污染低。物理氣相沉積法一般包括真空蒸鍍、濺射蒸鍍及離子蒸鍍。本實施例采用單一腔體進行反應式磁控濺射鍍膜法，亦可采用其它方式。

本實施例中，該膜層20為金屬單層膜，具有高度金屬質感、色彩艷離飽滿。在其它實施例中，該膜層可包括多層膜。

請一并參閱圖2，然后，提供一個遮罩30，該遮罩30的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩30對該第一表面101的遮蔽區域正好是圖案的形狀。該遮罩可與該工件磁性相吸。例如，該遮罩30具有較強的磁性，該工件10由可被磁性物質吸引的金屬或合金制成。將該遮罩30吸附于該第一表面101并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預定區域。由于該遮罩30與該工件10可磁性相吸，所以該遮罩可以方便快捷地吸附、固定在該第一表面101而不會在后續流程中移動位置，從而最大限度地保證圖案的精度。圖案可以是文字、圖形、數字、字母等各種標記，在本實施例中，該圖案為圓形。

然后，對該鍍有膜層20的第一表面101進行磁力研磨以去除該預定區域之外的膜層20。

磁力研磨是利用磁場作用進行研磨加工，其主要包括磁性浮動研磨和利用磁性磨料進行磁力研磨。本發明采用后者。具體來講，先將該工件10放入由兩個磁極形成的磁場中，在該工件10和磁極的間隙中放入磁性磨料。在磁場力的作用下，磨料沿磁力線方向整齊排列，形成一只柔軟且具有一定剛性的“磁研磨刷”。當該工件10在磁場中旋轉并作軸向振動時，該工件10與磁性磨料發生相對運動從而實現對膜層20的研磨加工。磁力研磨可利用改變磁場強度來控制研磨壓力，由于磁極與工件表面之間有加工間隙(1～4mm)，因此可通過磁性磨料進行柔性研磨，尤其適合對異形表面及自由曲面進行研磨。