[發(fā)明專利]真空鍍膜件及其制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010258943.6
• 申請(qǐng)日: 2010-08-20
• 公開（公告）號(hào): CN102373412A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張娟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/06
• 分類號(hào): C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空鍍膜件及其制造方法制造。

背景技術(shù)

真空鍍膜技術(shù)是一個(gè)環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高耐磨性、良好的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點(diǎn)，因此真空鍍膜在裝飾性表面處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣。但真空鍍膜技術(shù)也具有一定的局限性，在制造純黑色膜層過程中容易出現(xiàn)異色、黑中帶藍(lán)或黑中帶紅等現(xiàn)象，如此嚴(yán)重影響了黑色膜層的美觀。目前已見報(bào)道的黑色膜層L值(即明度值)最佳只能達(dá)到35左右，為了得到更純的黑色繼續(xù)降低膜層的L值存在較大難度。因此，開發(fā)一種L值較低的黑色鍍膜件實(shí)為必要。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種L值較低的黑色的真空鍍膜件。

另外，還提供一種上述真空鍍膜件的制造方法。

一種真空鍍膜件，包括一基體及一形成于基體上的顏色層，該顏色層為一碳氧化鈦鋁層，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于28至32之間，a^*坐標(biāo)介于-1至1之間，b^*坐標(biāo)介于-1至1之間。

一種真空鍍膜件的制造方法，包括以下步驟：

提供一基體；

使用一鈦靶及一鋁靶，通入流量為15～20sccm的氧氣及流量為15～20sccm的乙炔氣體，通過磁控濺射鍍膜方法在基體上形成一顏色層，該顏色層為一TiAlOC層，其厚度為0.3～1μm，呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于28至32之間，a^*坐標(biāo)介于-1至1之間，b^*坐標(biāo)介于-1至1之間。

相較于現(xiàn)有技術(shù)，上述真空鍍膜件的制造方法，采用鈦靶與鋁靶作為靶材，通過對(duì)反應(yīng)氣體氮?dú)饧耙胰矚怏w的流量控制來改變顏色層的成分，從而使顏色層的L^*坐標(biāo)介于28至32之間，呈現(xiàn)出純正的黑色。以該方法所制得的真空鍍膜件可呈現(xiàn)出具吸引力的純黑色的金屬外觀。

附圖說明

圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的真空鍍膜件的剖視示意圖。

主要元件符號(hào)說明

真空鍍膜件????10

基體??????????11

襯底層????????13

顏色層????????15

具體實(shí)施方式

本發(fā)明的真空鍍膜件可以為電子裝置外殼，也可以為眼鏡邊框、鐘表外殼、金屬衛(wèi)浴件及建筑用件等。

圖1所示為本發(fā)明較佳實(shí)施例的真空鍍膜件10，其包括一基體11、一襯底層13及一顏色層15。襯底層13直接與基體11結(jié)合，顏色層15形成于襯底層13的表面。

基體11的材質(zhì)可以為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。

襯底層13形成于基體11與顏色層15之間，以增強(qiáng)顏色層15于基體11上的附著力。襯底層13可為一鈦層或其它可提供附著效果的涂層。襯底層13的厚度大約為0.01～0.1μm。襯底層13的顏色以不影響顏色層顏色的色調(diào)為佳，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調(diào)。

顏色層15為一碳氧化鈦鋁(TiAlOC)層。該顏色層15呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于28至32之間，a^*坐標(biāo)介于-1至1之間，b^*坐標(biāo)介于-1至1之間，呈現(xiàn)出黑色。該顏色層15的厚度大約為0.3～1μm。

上述真空鍍膜件10的制造方法主要包括如下步驟：

提供一基體11，并將基體11放入盛裝有乙醇及/或丙酮溶液的超聲波清洗器中進(jìn)行震動(dòng)清洗，以除去基體11表面的雜質(zhì)和油污。清洗完畢后烘干備用。所述基體11的材質(zhì)可以為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。

再對(duì)基體11的表面進(jìn)行氬氣等離子清洗，進(jìn)一步去除基體11表面的油污，以改善基體11表面與后續(xù)涂層的結(jié)合力。對(duì)基體11的表面進(jìn)行氬氣等離子清洗的方法包括如下步驟：將基體11放入一中頻磁控濺射鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)的工件架上，抽真空該真空室至真空度為8.0×10^-3pa，以300～600sccm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的流量向真空室內(nèi)通入純度為99.999％的氬氣，于基體11施加-300～-800V的偏壓，對(duì)基體11表面進(jìn)行等離子清洗，清洗時(shí)間為5～10min。