[發明專利]一種陽離子發生裝置無效
| 申請號： | 201010255469.1 | 申請日： | 2010-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN101935862A | 公開（公告）日： | 2011-01-05 |
| 發明（設計）人： | 蔡有利 | 申請（專利權）人： | 蘇州銓笠電鍍掛具有限公司 |
| 主分類號： | C25D21/14 | 分類號： | C25D21/14 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 215400 江蘇省太*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 陽離子 發生 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種陽離子發生裝置，其特征在于包括：
電解槽(1)；
陽極(2)，設置在電解槽(1)內并浸入鍍液中，直接用鍍層金屬或惰性金屬其上設有鍍層金屬作陽極；
陰極(3)，設置在電解槽(1)內并浸入電解液中，用惰性金屬作陰極；
電解電源(4)，其用于在上述陽極(2)和陰極(3)之間通電進行電解；以及
阻止離子通過的膜(6)，其設于所述電解槽(1)內的陽極(2)及陰極(3)之間，將電解槽(1)分為陽極室(7)和陰極室(8)。
2.根據權利要求1所述的一種陽離子發生裝置，其特征在于：在所述的陽極室(7)內設有反逆流裝置(9)。
3.根據權利要求2所述的一種陽離子發生裝置，其特征在于：所述的反逆流裝置(9)為多塊隔板(10)中間相隔一定距離上下交錯排列而成。
4.根據權利要求3所述的一種陽離子發生裝置，其特征在于：所述的反逆流裝置(9)的第一塊隔板(11)與電解槽(1)底部之間設有縫隙。
5.根據權利要求1至4任一項所述的一種陽離子發生裝置，其特征在于：所述的阻止離子通過的膜(6)為RO反滲透膜。
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