[發明專利]改性納米二氧化硅顆粒增強鎳磷復合鍍層的方法

無效

• 申請號: 201010253728.7
• 申請日: 2010-08-16
• 公開（公告）號: CN101906625A
• 公開（公告）日: 2010-12-08
• 發明（設計）人: 宿輝
• 申請（專利權）人: 宿輝
• 主分類號: C23C18/36
• 分類號: C23C18/36
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種改性納米二氧化硅顆粒增強鎳磷復合鍍層的方法，其特征是以表面化學鍍鎳后的納米二氧化硅粒子為增強體，制備鎳磷納米復合鍍層，降低了納米粒子的團聚，提高了粒子在鍍層中的分散程度、沉積量及鍍層的硬度、耐磨性和抗高溫性能。

2.根據權利要求1所述的工藝方法，其特征是：納米SiO₂表面化學鍍鎳前，必須對其進行預處理，此過程包括：微波濕刻蝕、親水處理、循環敏化、鈀鹽活化。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征是：低碳鋼試樣的預處理過程包括：打磨、拋光、堿洗除油、有機溶劑除油、活化。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征是：鍍液中各成分的濃度是：硫酸鎳的濃度為20-30g·L^-1，次亞磷酸鈉的濃度為24-35g·L^-1，乳酸的濃度為10-15ml·L^-1、檸檬酸鈉的濃度為10-15g·L^-1、硼酸的濃度為5-10g·L、丁二酸的濃度為0.5-1.5mg·L^-1，穩定劑的濃度為0.1-1.0mg·L^-1，表面活性劑的濃度為20-60mg·L^-1。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征是：溫度控制在75℃-90℃，pH值為4.0-5.0。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征是：所采用的原料SiO₂的加入量為1.0～5.0mg·L^-1。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征是：采用復合絡合劑乳酸、檸檬酸鈉、丁二酸。