[發(fā)明專利]真空鍍膜件及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010245062.0
• 申請日: 2010-08-04
• 公開（公告）號: CN102345102A
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;馬闖
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空鍍膜件及其制備方法，尤其涉及一種呈現(xiàn)巧克力色的真空鍍膜件及其制備方法。

背景技術(shù)

真空鍍膜技術(shù)是一個非常環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高耐磨性、良好的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點，因此真空鍍膜在裝飾性表面處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣。

在裝飾性真空鍍膜領(lǐng)域中，對所鍍膜層的顏色的設(shè)計與控制是一個非常關(guān)鍵的技術(shù)指標(biāo)。目前采用真空鍍膜技術(shù)能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)的顏色僅限于金色、銀色、黑色、玫瑰紅等少數(shù)色系，與烤漆、陽極處理等成膜工藝相比，真空鍍膜在裝飾性表面處理領(lǐng)域的競爭力不強。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種呈現(xiàn)巧克力色的真空鍍膜件。

另外，還提供一種上述真空鍍膜件的制備方法。

一種真空鍍膜件，包括一基體及一形成于基體上的顏色層，該顏色層為一TiCN層，所述顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于36至48之間，a^*坐標(biāo)介于4至5之間，b^*坐標(biāo)介于2至4之間。

一種真空鍍膜件的制備方法，包括以下步驟：

提供一基體；

使用一鈦靶，通入流量為40～80sccm的氮氣及流量為5～20sccm的乙炔氣體，通過磁控濺射鍍膜方法在基體上形成一顏色層，該顏色層為一TiCN層，其厚度為0.5～3μm，呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)L^*坐標(biāo)介于36至48之間，a^*坐標(biāo)介于4至5之間，b^*坐標(biāo)介于2至4之間。

相較于現(xiàn)有技術(shù)，上述真空鍍膜件的制備方法，通過對反應(yīng)氣體氮氣及乙炔氣體的流量控制來改變顏色層的成分，即改變顏色層中氮原子、碳原子與鈦原子的比例，從而達到使顏色層呈現(xiàn)出巧克力色的目的。以該方法所制得的真空鍍膜件可呈現(xiàn)出具吸引力的巧克力色的金屬外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。

附圖說明

圖1為本發(fā)明較佳實施例的真空鍍膜件的剖視示意圖。

主要元件符號說明

真空鍍膜件????????????????10

基體??????????????????????11

襯底層????????????????????13

顏色層????????????????????15

具體實施方式

本發(fā)明的真空鍍膜件可以為電子裝置外殼，也可以為眼鏡邊框、鐘表外殼、金屬衛(wèi)浴件及建筑用件。

請參閱圖1，本發(fā)明較佳實施例的真空鍍膜件10包括一基體11、一襯底層13及一顏色層15。襯底層13直接與基體11結(jié)合，顏色層15形成于襯底層13的表面。

基體11的材質(zhì)為鋁合金、鎂合金或不銹鋼，優(yōu)選為不銹鋼。

襯底層13形成于基體11與顏色層15之間，以增強顏色層15于基體11上的附著力。襯底層13可為一鈦層或其它可提供附著效果的涂層。襯底層13的厚度大約為0.05～0.2μm，優(yōu)選厚度為0.1μm。襯底層13的顏色以不影響顏色層顏色的色調(diào)為佳，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調(diào)。

顏色層15為一碳氮化鈦(TiCN)層。所述顏色層15呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于36至48之間，a^*坐標(biāo)介于4至5之間，b^*坐標(biāo)介于2至4之間，呈現(xiàn)出巧克力色。顏色層15的厚度大約為0.5～3μm，優(yōu)選厚度為1μm。

上述真空鍍膜件10的制備方法主要包括如下步驟：

提供一基體11，將基體11放入盛裝有乙醇及/或丙酮溶液的超聲波清洗器中進行震動清洗，以除去基體11表面的雜質(zhì)和油污。清洗完畢后烘干備用。基體11的材質(zhì)為鋁合金、鎂合金或不銹鋼，優(yōu)選為不銹鋼。

對基體11的表面進行氬氣等離子清洗，進一步去除基體11表面的油污，以改善基體11表面與后續(xù)涂層的結(jié)合力。對基體11的表面進行氬氣等離子清洗的方法包括如下步驟：將基體11放入一磁控濺射鍍膜機的真空室內(nèi)的工件架上，抽真空至真空度為8.0×10^-3Pa，以300～600sccm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的流量向真空室內(nèi)通入純度為99.999％的氬氣，施加-300～-800V的偏壓于基體11，對該基體11表面進行等離子清洗，清洗時間為5～10min。