[發(fā)明專(zhuān)利]金屬加工方法、金屬掩模制造方法以及有機(jī)EL顯示裝置制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010242038.1
• 申請(qǐng)日: 2010-07-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101988181A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 松館法治;大河原健
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立顯示器;佳能株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 呂林紅

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬加工方法、以及使用該金屬加工方法的金屬掩模制造方法和有機(jī)EL面板制造方法，更詳細(xì)地說(shuō)，涉及加工金屬表面的金屬加工方法、使用該金屬加工方法的金屬掩模制造方法以及使用該金屬加工方法的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法。?

背景技術(shù)

近年來(lái)，使用被稱(chēng)為有機(jī)EL元件(OLED：Organic?Light?EmittingDiode)的自發(fā)光體的圖像顯示裝置(以下，稱(chēng)為“有機(jī)EL顯示裝置”)處于實(shí)用化階段。該有機(jī)EL顯示裝置與以往的液晶顯示裝置比較，由于采用了自發(fā)光體，所以不僅是在視覺(jué)效果、響應(yīng)速度這些點(diǎn)上有優(yōu)勢(shì)，還不需要背光這樣的輔助照明裝置，因此可以進(jìn)一步的薄型化、省電化。?

作為該有機(jī)EL顯示裝置的像素排列的自發(fā)光體的低分子有機(jī)EL層，由RGB的各發(fā)光層構(gòu)成，他們一般是利用真空蒸鍍法在玻璃基板上形成膜(參照日本特開(kāi)2003-68456公報(bào))。這里，所形成的有機(jī)EL層，直接影響到顯示畫(huà)面的精細(xì)度，所以從有機(jī)EL顯示裝置的高分辨率化的觀點(diǎn)以及有機(jī)EL顯示裝置的制造方法中的成品率改善的觀點(diǎn)來(lái)看，穩(wěn)定且高精度地形成該有機(jī)EL層，對(duì)于有機(jī)EL顯示裝置的制造而言成為重要的要素。?

為了進(jìn)行高精度的真空蒸鍍，以高精度地加工真空蒸鍍所使用的金屬掩模成為條件。以下，說(shuō)明以往的金屬掩模的制造方法。?

在圖5中，使用剖面圖示意性地示出以往的金屬掩模950的制法。如該圖所示，首先制造作為金屬掩模950的基材的金屬板910(步驟?S801)。例如，厚度50μm的Ni-Fe(鎳-鐵)合金等。接下來(lái)，在該金屬板910的上表面和下表面涂布光抗蝕(photo?resist)液，形成光抗蝕膜920以及930(步驟S802)，接下來(lái)，通過(guò)進(jìn)行圖案(pattern)曝光以及顯像，從而去除多余的光抗蝕膜920以及930(步驟S803)。?

接著，將其浸在蝕刻液中，去掉沒(méi)有光抗蝕膜920以及930的部分的金屬(步驟S804)，形成孔(步驟S805)。最后，去除殘留的光抗蝕膜920以及930，完成金屬掩模950(步驟S806)。?

發(fā)明內(nèi)容

但是，如上所述的金屬掩模950的制法中的光抗蝕膜920以及930需要是能經(jīng)受去掉金屬板910的蝕刻處理的光抗蝕膜，所以光抗蝕膜920以及930的膜厚必須厚至3～5μm。因此，很難均勻地涂布光抗蝕膜920以及930，由此通過(guò)圖案曝光以及顯像所形成的光抗蝕膜920以及930的圖案的精度變低，結(jié)果，成為使金屬掩模950的加工精度劣化的原因。?

此外，金屬板910的表面具有微小的起伏(平均粗度1.5μm)，所以廣泛地存在與涂布光抗蝕膜920以及930的密接性不充分的地方。該密接性不充分的地方，在蝕刻處理中，由于蝕刻液的流入，會(huì)去掉本來(lái)不想去掉的部分，形成過(guò)蝕刻的原因。圖6示出了過(guò)蝕刻940的樣子。這里，圖6作為圖5的步驟S805的部分放大圖而示出。如該圖所示，在靠近孔的密接性不充分的地方容易發(fā)生過(guò)蝕刻940。因此，由于該過(guò)蝕刻940也會(huì)招致金屬掩模950的加工精度的降低。?

本發(fā)明是鑒于上述情況完成的，目的在于提供高精度的金屬加工方法、使用該金屬加工方法的金屬掩模制造方法以及使用該金屬加工方法的有機(jī)EL顯示裝置制造方法。?

本發(fā)明的金屬加工方法是加工金屬表面的金屬加工方法，包括以下步驟：光刻(Photolithography)步驟，以在進(jìn)行上述金屬表面的加工的部分上殘留光抗蝕膜的方式形成上述光抗蝕膜；金屬薄膜形成步驟，在上述光刻步驟中形成的上述光抗蝕膜上、以及沒(méi)有形成上述光?抗蝕膜的上述金屬表面上，形成上述金屬薄膜；抗蝕金屬薄膜去除步驟，與上述光抗蝕膜一起，取除在上述光抗蝕膜上形成的上述金屬薄膜；以及蝕刻步驟，對(duì)通過(guò)上述抗蝕金屬薄膜去除步驟而露出的金屬表面進(jìn)行蝕刻。?

此處的光刻(Photolithography)步驟意味著由在半導(dǎo)體制造中使用的、被稱(chēng)為光抗蝕材料的感光性有機(jī)溶劑的涂布、曝光、顯像的各步驟構(gòu)成的光刻步驟，對(duì)于抗蝕材料可以使用酚醛尸(novolak)型和化學(xué)增寬型及其他的抗蝕材料。此外，蝕刻步驟也是在半導(dǎo)體制造等中使用的蝕刻步驟，可以是干法蝕刻以及濕法蝕刻中的某一種。此外，對(duì)于形成金屬薄膜而言，通過(guò)形成金屬薄膜，其結(jié)果包括在金屬表面形成合金那樣的情況。?

此外，具有上述金屬表面的金屬的形狀是板狀，本發(fā)明的金屬加工方法可以設(shè)置從上述板狀的金屬的表和里兩面進(jìn)行加工。?

此外，本發(fā)明的金屬加工方法，能夠設(shè)計(jì)上述蝕刻步驟是在具有上述金屬表面的金屬上形成貫通孔的步驟。?