[發明專利]單腔體組織學組織處理器

無效

• 申請號: 201010238098.6
• 申請日: 2010-07-26
• 公開（公告）號: CN101963554A
• 公開（公告）日: 2011-02-02
• 發明（設計）人: 弗朗西斯科·維西諾尼;馬爾科·貝利尼
• 申請（專利權）人: 里程碑公司
• 主分類號: G01N1/44
• 分類號: G01N1/44
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東

1.一種用于處理組織標本的系統，該系統包括：

多個腔體，所述多個腔體用于處理所述組織標本，其中，所述多個腔體的每個均與微波產生裝置和熱能產生裝置連接，所述微波產生裝置用于向所述腔體的內部施加微波輻射，所述熱能產生裝置用于在所述腔體內產生正熱能梯度；以及

流體傳送系統，該流體傳送系統用于將來自多個儲存容器的多種流體中的至少一種流體傳送到所述多個腔體的每個腔體內，并用于將所述至少一種流體從所述多個腔體中的每個腔體傳送出來。

2.根據權利要求1所述的系統，其中，所述熱能產生裝置獨立于所述微波產生裝置。

3.根據權利要求1或2所述的系統，其中，所述熱能產生裝置包括與所述腔體功能連接的至少一個電阻加熱元件。

4.根據權利要求3所述的系統，其中，所述至少一個電阻加熱元件附接到所述腔體、設置在所述腔體的壁內和/或設置在所述腔體的底部內。

5.根據權利要求4所述的系統，其中，所述至少一個電阻加熱元件具有圓柱形形狀。

6.根據權利要求4或5所述的系統，其中，在所述腔體的所述壁內彼此相對地設置兩個電阻加熱元件，并且

其中，所述兩個電阻加熱元件在與所述腔體的縱軸線平行的方向上沿所述壁的至少一部分延伸。

7.根據權利要求4或5所述的系統，其中，在所述腔體的所述壁內彼此等距地設置四個電阻加熱元件，并且

其中，所述四個電阻加熱元件在與所述腔體的縱軸線平行的方向上沿所述壁的至少一部分延伸。

8.根據權利要求4或5所述的系統，其中，在所述腔體的所述壁內彼此相對地設置兩個電阻加熱元件，并且在所述腔體的所述底部內設置至少一個另外的電阻加熱元件，

其中，所述壁內的所述兩個電阻加熱元件在與所述腔體的縱軸線平行的方向上沿所述壁的至少一部分延伸。

9.根據權利要求4或5所述的系統，其中，所述電阻加熱元件為附接到所述腔體的外壁上的柔性電阻片，該柔性電阻片優選由導電硅材料構成。

10.根據前述權利要求中任一項所述的系統，其中，該系統還包括一控制單元，該控制單元用于分別控制所述微波產生裝置和所述熱能產生裝置，以在所述腔體內實現期望的溫度曲線。

11.根據前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述腔體由鋁制成。

12.根據前述權利要求中任一項所述的系統，其中，傳送裝置將包括所述組織標本的樣本保持器傳送到所述腔體中并將所述樣本保持器從所述腔體中傳送出來，并且其中，所述傳送裝置是通過腳踏板致動的機械傳送裝置。

13.根據前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述多種流體為試劑、蠟和乙醇中的至少一種，并且其中，所述蠟儲存在與所述腔體相鄰的蠟儲存容器中，所述蠟儲存容器將所述蠟儲存在熔融狀態。

14.根據前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述流體傳送系統至少包括專用的試劑傳送子系統和專用的蠟傳送子系統，所述試劑傳送子系統和所述蠟傳送子系統彼此獨立。

15.根據前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述腔體中的每個均包括用于蠟的專用排出系統和獨立的用于試劑的專用排出系統，

所述排出系統中的每個均包括U形排出孔，所述U形排出孔具有位于所述腔體底部的腔體外部入口/出口和腔體內部入口/出口。

16.根據權利要求15所述的系統，其中，所述蠟排出系統緊靠所述熱能產生裝置定位。

17.一種用于處理組織標本的方法，該方法包括：

將多個組織標本的組織樣本保持器通過一裝置傳送到多個腔體中的一個腔體；

用與所述組織樣本保持器聯接的蓋關閉所述腔體；

在所述腔體中處理所述多個組織標本；

通過流體傳送系統將至少一種流體從儲存容器選擇地傳送到所述腔體中，或者從所述腔體中傳送出來，并且

通過與所述腔體連接的微波產生裝置和熱能產生裝置向所述腔體的內部施加微波輻射和熱能中的至少一種。

18.根據權利要求17所述的方法，該方法還包括在采用微波輻射的期望溫度曲線的斜升步驟期間在所述腔體內產生正能量梯度的步驟。