[發明專利]一種高增透濾波片及其加工方法

無效

• 申請號: 201010236269.1
• 申請日: 2010-07-26
• 公開（公告）號: CN101893730A
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發明（設計）人: 陸斌武;李潔;曹亞安
• 申請（專利權）人: 無錫海達安全玻璃有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/11;C23C26/00
• 代理公司: 無錫盛陽專利商標事務所(普通合伙) 32227
• 代理人: 顧吉云

技術領域

本發明涉及濾波片加工技術領域，具體為一種高增透濾波片及其加工方法。

背景技術

無線電波、紅外線、可見光、紫外線、倫琴射線、γ射線合起來，構成了范圍非常廣闊的電磁波譜，他們的波長范圍從10^-12m到10⁹m，最長波的波長是最短的波長的1021倍以上。現在各種電磁波的范圍已經銜接起來并且發生了交錯，例如長波的紅外線和微波已經重疊，短波的紫外線已經進入倫琴射線的區域。總的說來，從無線電波到γ射線，其是本質上相同的電磁波，它們的行為服從共同的規律。但是如此之寬的電磁波譜，我們并不一定要全部用到，許多光學系統要求能夠在連續的波長中選擇某一個波段，區分或者識別各種分立的波長，或者在一定的波長范圍內進行掃描，這就需要對電磁波進行濾波。

傳統的濾波片，雖然能夠濾掉某個波段的光，但是由于濾波片本身的透射率不高，故其在濾掉某個波段光的同時也影響器件的工作效率，器件的工作效率低。

發明內容

針對上述問題，本發明提供了一種高增透濾波片，其能保證濾波片濾掉某個波段的光又能確保指定波段光的透射率，從而提高器件的工作效率，為此，本發明還提供了濾波片的加工方法，其可控性強、生產成本低、工藝簡單，加工得到的高增透濾波片表面質量好，增透效果顯著。

一種高增透濾波片，其包括基片，其特征在于：所述基片為濾波片，在所述濾波片的兩側面鍍有增透膜層。

其進一步特征在于：所述增透膜層為SiO₂增透膜層。

一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：其包含以下步驟：

（1）制備SiO₂增透膜溶液：在常溫下分別制備兩份溶液，一份加入硅酸酯和稀釋劑，另一份順次加入去離子水、水解催化劑和稀釋劑，然后將兩份溶液分別攪拌10min～15min后混合，再攪拌5h～10h，室溫陳化3天～15天后，得到所述SiO₂增透膜溶液；所述兩份溶液中硅酸酯與稀釋劑的體積比均為1：（10～20），硅酸酯和去離子水的體積比為1：（0.1～0.3），所述硅酸酯與水解催化劑的體積比為1：（0.15～0.8）；

（2）清洗濾波片，分別用去離子水、無水乙醇超聲清洗所述濾波片，然后放入干燥器中烘干備用；

（3）鍍膜：將所述SiO₂增透膜溶液鍍于所述已清洗過的濾波片兩側面，然后將已經鍍好膜的濾波片在50℃～80℃溫度下烘干。

其進一步特征在于：在所述鍍膜前將所述SiO₂增透膜溶液在超聲波振蕩器內超聲振蕩5min～15min；所述鍍膜采用垂直提拉法，提拉速度為300mm/min～700mm/min；?

所述濾波片為有色玻璃濾波片、金屬薄膜濾波片、長波通濾波片、短波通濾波片、寬帶通濾波片、紅外截止型濾波片、紫外截止型濾波片中的任一種；

所述硅酸酯為正硅酸乙酯；

所述稀釋劑為無水乙醇、無水甲醇、無水異丙醇中的任一種；

所述水解催化劑為氨水；

所述垂直提拉法是將濾波片懸掛固定于吊具，所述吊具連接升降機構，鍍鏌時，所述升降機構通過吊具帶動濾波片緩慢下行，將濾波片浸漬于裝有SiO₂增透膜溶液的溶液槽內10秒鐘，然后按300mm/min～700mm/min的提拉速度向上拉升，SiO₂增透膜溶液就均勻地粘附在濾波片表面。

本發明的一種高增透濾波片，其采用濾波片作為基片，能有效濾掉某個波段的光，其基片兩側面鍍有SiO₂增透膜能提高該濾波片對透過波段光的透射率，提高器件的工作效率；一種高增透濾波片的加工方法，與一般的SiO₂增透膜溶液相比較，其SiO₂增透膜溶液中加入了稀釋劑，稀釋劑內的納米小球懸浮在溶液里稀釋了溶液，使得溶液中的納米粒子的距離保持在50nm左右，有效防止粒子團聚，從而提高SiO₂增透膜穩定性，保證了鍍膜厚度的一致性；其鍍膜方法采用垂直提拉法，通過提拉速度的控制能有效調控膜層厚度，調節增透峰值位置，進一步保證了表面膜層厚度的一致性，且其對設備要求低，生產成本低。

附圖說明

圖1為本發明的高增透濾波片截面結構示意圖。

具體實施方式

一種高增透濾波片，其包括基片１，基片１為濾波片，在濾波片１的兩側面鍍有增透膜層2，增透膜2為SiO₂增透膜層。

一種高增透濾波片的加工方法，其包括以下加工步驟：