[發明專利]一種高增透濾波片及其加工方法

無效

• 申請號: 201010236269.1
• 申請日: 2010-07-26
• 公開（公告）號: CN101893730A
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發明（設計）人: 陸斌武;李潔;曹亞安
• 申請（專利權）人: 無錫海達安全玻璃有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/11;C23C26/00
• 代理公司: 無錫盛陽專利商標事務所(普通合伙) 32227
• 代理人: 顧吉云

1.一種高增透濾波片，其包括基片，其特征在于：所述基片為濾波片，在所述濾波片的兩側面鍍有增透膜層。

2.根據權利要求1所述的一種高增透濾波片，其特征在于：所述增透膜層為SiO₂增透膜層。

3.一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：其包含以下步驟：

（1）制備SiO₂增透膜溶液：在常溫下分別制備兩份溶液，一份加入硅酸酯和稀釋劑，另一份順次加入去離子水、水解催化劑和稀釋劑，然后將兩份溶液分別攪拌10min～15min后混合，再攪拌5h～10h，室溫陳化3天～15天后，得到所述SiO₂增透膜溶液；所述硅酸酯與稀釋劑的體積比為1：（10～20），硅酸酯和去離子水的體積比為1：（0.1～0.3），所述硅酸酯與水解催化劑的體積比為1：（0.15～0.8）；

（2）清洗濾波片，分別用去離子水、無水乙醇超聲清洗所述濾波片，然后放入干燥器中烘干備用；

（3）鍍膜：將所述SiO₂增透膜溶液鍍于所述已清洗過的濾波片兩側面，然后將已經鍍好膜的濾波片在50℃～80℃溫度下烘干。

4.根據權利要求3所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：在所述鍍膜前將所述SiO₂增透膜溶液在超聲波振蕩器內超聲振蕩5min～15min。

5.根據權利要求3或4所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：所述鍍膜采用垂直提拉法，提拉速度為300mm/min～700mm/min。

6.根據權利要求4所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：所述濾波片為有色玻璃濾波片、金屬薄膜濾波片、長波通濾波片、短波通濾波片、寬帶通濾波片、紅外截止型濾波片、紫外截止型濾波片中的任一種。

7.根據權利要求4所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：所述硅酸酯為正硅酸乙酯。

8.根據權利要求4所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：所述稀釋劑為無水乙醇、無水甲醇、無水異丙醇中的任一種。

9.根據權利要求4所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：所述水解催化劑為氨水。

10.根據權利要求5所述的一種高增透濾波片的加工方法，其特征在于：所述垂直提拉法是將濾波片懸掛固定于吊具，所述吊具連接升降機構，鍍鏌時，所述升降機構通過吊具帶動濾波片緩慢下行，將濾波片浸漬于裝有SiO₂增透膜溶液的溶液槽內10秒鐘，然后按300mm/min～700mm/min的提拉速度向上拉升，SiO₂增透膜溶液就均勻地粘附在濾波片表面。