[發明專利]真空蒸鍍方法及其裝置

無效

• 申請號: 201010235894.4
• 申請日: 2010-07-22
• 公開（公告）號: CN101962750A
• 公開（公告）日: 2011-02-02
• 發明（設計）人: 松浦宏育;土井秀明;加藤升;韭澤信廣
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶

技術領域

本發明涉及形成真空蒸鍍膜的方法及其裝置，特別涉及適合在大型基板上形成厚度均勻的薄膜的真空蒸鍍方法及其裝置。

背景技術

在有機EL顯示裝置或照明裝置中所使用的有機EL元件，是從上下方向用正極與負極一對電極夾入由有機材料形成的有機層而成的結構，通過給電極外加電壓，向有機層分別從正極側注入的空穴、從負極側注入電子，通過它們的再結合而發光的構造。

該有機層為包括空穴注入層、空穴輸送層、發光層、電子輸送層、電子注入層的多層疊層而成的結構。作為形成該有機層的材料，包括使用了高分子材料和低分子材料的材料。其中使用低分子材料的情況下，使用真空蒸鍍裝置形成有機薄膜。

有機EL器件的特性受到有機層的膜厚的影響很大。另一方面，形成有機薄膜的基板逐年大型化起來。因而，在使用真空蒸鍍裝置的情況下，對于在大型基板上形成的有機薄膜來說，高精度地控制其膜厚是有必要的。

作為通過真空蒸鍍在大型基板上形成薄膜的結構，在專利文獻1(日本特開2004-95275號公報)中公開了具有線型蒸發源的真空蒸鍍裝置。在專利文獻2(日本特開2002-343563號公報)中公開了，將大型基板保持鉛直，使用具備了多個坩堝的蒸發源在基板上形成薄膜的真空蒸鍍裝置。此外，在專利文獻3(日本特開2004-225058號公報)中公開了，在蒸發源移動導向部上設置多個蒸發源，使得該多個蒸發源沿著蒸發源移動導向部可移動的結構。

發明內容

在專利文獻1中記載了，在設置有呈線狀排列的多個噴嘴的蒸發源之上，使玻璃基板在與噴嘴排列方向垂直的方向上移動，從而在玻璃基板上形成有機薄膜的結構，將蒸發源的多個噴嘴以非均等間隔排列設置，從而避免在蒸發源的長度方向上的膜厚上存在偏差的問題。然而，沒有考慮到對于多個噴嘴的各自，檢測由于蒸鍍材料的析出所導致的被堵住的狀態。

在對比文件2中記載了，通過用保持工具保持大型基板的背面整體，在基板保持為沒有翹曲的狀態下，從具備多個坩堝的蒸發源蒸發材料，從而在基板上形成薄膜。然而，沒有公開使形成在基板上的薄膜均勻的設備。

在專利文獻3中記載了，基于膜厚監測器檢測出的膜厚來檢測蒸鍍速度，由此預測所蒸鍍的膜厚，在基板上形成薄膜的成膜裝置。然而，沒有公開使形成在基板上的薄膜均勻的裝置。

本發明的目的在于，解決上述現有技術的問題，提供一種使用設置有呈線狀排列的多個噴嘴的蒸發源，能夠在大型化的基板上形成均勻膜厚的有機薄膜真空蒸鍍方法及其裝置。

為了達到上述目的，本發明提供一種真空蒸鍍裝置，其為，在被排氣為真空的腔室內，將通過加熱而氣化的蒸鍍材料蒸鍍的蒸鍍裝置，其特征為包括：

保持基板的基板保持設備、

使蒸鍍材料氣化而從噴嘴排放的具有在一個方向上較長形狀的蒸發源、

使蒸發源或者保持基板的基板保持設備的至少一者在與蒸發源的較長的一個方向垂直的方向上移動的第一移動設備、

檢測所述蒸發源排放所述蒸鍍材料的排放速度的檢測設備、

使所述蒸發源或者所述檢測設備的至少一者在與所述蒸發源的較長的一個方向平行的方向上移動的第二移動設備、

控制基板保持設備、蒸發源、第一移動設備、檢測設備和第二移動設備的控制設備，

通過控制設備控制第二移動設備，從而移動所述檢測設備或所述蒸發源的至少一者，由此測量所述蒸發源的排放速度在長度方向上的分布。

此外，為了達到上述目的，在本發明中，該真空蒸鍍裝置具備多個真空蒸鍍部，所述真空蒸鍍部在蒸鍍裝置的真空槽內，在用影孔板覆蓋的被處理基板的表面上，通過蒸鍍形成薄膜，具有在維持為真空的氣氛中在多個真空蒸鍍部間交接被處理基板的被處理基板交接部的真空蒸鍍裝置的多個真空蒸鍍部中的至少一個真空蒸鍍部包括：

通過線上配置的多個噴嘴，使加熱氣化后的蒸鍍材料向所述真空槽內排放的蒸發源、

在用影孔板覆蓋的狀態下保持處理基板的基板保持設備、

沿著被所述基板保持設備保持的被處理基板，使所述蒸發源在與線上配置的多個噴嘴的排列方向成直角的方向上相對掃描的驅動設備、

對于蒸發源具有的噴嘴，一個或者相鄰的多個噴嘴作為一組，檢測從噴嘴組各自排放的蒸鍍材料的各自的排放狀態的檢測設備。