[發明專利]一種載板回收控制方法、系統及一種薄膜沉積設備、方法有效
| 申請號: | 201010234877.9 | 申請日: | 2010-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN102337518A | 公開(公告)日: | 2012-02-01 |
| 發明(設計)人: | 陸濤 | 申請(專利權)人: | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人: | 蘇培華 |
| 地址: | 100016 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 回收 控制 方法 系統 薄膜 沉積 設備 | ||
1.一種載板回收控制方法,其特征在于,包括:
將載板回收劃分為三個控制部分,分別是裝載臺的升降、卸載臺的升降和卸載臺到裝載臺的傳輸;
對于卸載臺到裝載臺的傳輸,根據所有可同時執行的傳輸動作構建狀態機進行控制,包括以下步驟:
在卸載臺、裝載臺以及卸載臺與裝載臺之間的返回臺中選擇狀態點,并以所選狀態點將卸載臺到裝載臺的傳輸劃分為多個狀態,每個狀態在滿足傳輸條件時執行相應的傳輸動作,并向另一個狀態轉換;
各個狀態之間的轉換包含所有可同時執行的傳輸動作。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,通過以下方式選擇狀態點:
在卸載臺、裝載臺以及卸載臺與裝載臺之間的返回臺中,間隔設置狀態點。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于:
當卸載臺與裝載臺之間的返回臺依次為第一返回臺、第二返回臺和第三返回臺共三個時,在卸載臺、裝載臺以及卸載臺與裝載臺之間的返回臺中選擇第一返回臺和第三返回臺做為狀態點。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于:
選擇第一返回臺和第三返回臺為狀態點將卸載臺到裝載臺的傳輸劃分為以下四個狀態:
第三返回臺有載板、第一返回臺有載板;
第三返回臺有載板、第一返回臺無載板;
第三返回臺無載板、第一返回臺有載板;
第三返回臺無載板、第一返回臺無載板。
5.根據權利要求1或4所述的方法,其特征在于,所述每個狀態滿足的傳輸條件包括:
傳輸的源位置有載板,傳輸的目的位置無載板。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:
對于裝載臺的升降和卸載臺的升降,當滿足上升條件時則上升到高位,否則在低位等待。
7.一種載板回收控制系統,其特征在于,包括:
回收劃分模塊,用于將載板回收劃分為三個控制部分,分別是裝載臺的升降、卸載臺的升降和卸載臺到裝載臺的傳輸;
傳輸控制模塊,用于針對卸載臺到裝載臺的傳輸,根據所有可同時執行的傳輸動作構建狀態機進行控制,包括以下子模塊:
狀態點選擇子模塊,用于在卸載臺、裝載臺以及卸載臺與裝載臺之間的返回臺中選擇狀態點;
狀態劃分子模塊,用于以所選狀態點將卸載臺到裝載臺的傳輸劃分為多個狀態;
狀態轉換子模塊,用于在每個狀態滿足傳輸條件時執行相應的傳輸動作,并向另一個狀態轉換;各個狀態之間的轉換包含所有可同時執行的傳輸動作。
8.根據權利要求7所述的系統,其特征在于:
所述狀態點選擇子模塊在卸載臺、裝載臺以及卸載臺與裝載臺之間的返回臺中,間隔設置狀態點。
9.根據權利要求8所述的系統,其特征在于:
當卸載臺與裝載臺之間的返回臺依次為第一返回臺、第二返回臺和第三返回臺共三個時,所述狀態點選擇子模塊在卸載臺、裝載臺以及卸載臺與裝載臺之間的返回臺中選擇返回臺第一返回臺和第三返回臺做為狀態點。
10.根據權利要求9所述的系統,其特征在于:
當選擇第一返回臺和第三返回臺為狀態點時,所述狀態劃分子模塊將卸載臺到裝載臺的傳輸劃分為以下四個狀態:
第三返回臺有載板、第一返回臺有載板;
第三返回臺有載板、第一返回臺無載板;
第三返回臺無載板、第一返回臺有載板;
第三返回臺無載板、第一返回臺無載板。
11.根據權利要求7或10所述的系統,其特征在于,所述每個狀態滿足的傳輸條件包括:
傳輸的源位置有載板,傳輸的目的位置無載板。
12.根據權利要求7所述的系統,其特征在于,還包括:
裝載臺升降控制模塊,用于控制裝載臺的升降,當滿足上升條件時則上升到高位,否則在低位等待;
卸載臺升降控制模塊,用于控制卸載臺的升降,當滿足上升條件時則上升到高位,否則在低位等待。
13.一種薄膜沉積設備,其特征在于,包括如權利要求7-12任意一項權利要求所述的載板回收控制系統。
14.一種薄膜沉積方法,其特征在于,包括如權利要求1-6任意一項權利要求所述的載板回收控制方法。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





