[發明專利]連續真空鍍膜方法無效
| 申請號： | 201010234736.7 | 申請日： | 2010-07-23 |
| 公開（公告）號： | CN102337510A | 公開（公告）日： | 2012-02-01 |
| 發明（設計）人： | 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;戴龍文;陳正士 | 申請（專利權）人： | 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/56 | 分類號： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 連續 真空鍍膜 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種連續真空鍍膜方法，其包括如下步驟：
提供一基體；
將該基體裝載于一連續真空鍍膜機中，該連續真空鍍膜機的鍍膜室設有陰極電弧發射源；
以陰極電弧鍍的方式在該基體的表面沉積一鍍膜層。
2.如權利要求1所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述連續真空鍍膜機包括依次連接的一裝載室，一第一預抽室，一第一緩沖室，鍍膜室，一第二緩沖室，一第二預抽室，及一卸載室。
3.如權利要求2所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述鍍膜室包括若干個相互串聯的真空腔。
4.如權利要求3所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述鍍膜室包括三個相互串聯的真空腔。
5.如權利要求1所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述鍍膜層包括依次形成于基體表面的結合層、保護層及顏色層。
6.如權利要求5所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述結合層為一Zr層。
7.如權利要求5所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述保護層為一Zr-C-O層。
8.如權利要求5所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述顏色層為一Ti-N-C層。
9.如權利要求1所述的連續真空鍍膜方法，其特征在于：所述基體的材質為金屬、陶瓷或玻璃。
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