[發(fā)明專(zhuān)利]高濃度Ti阻擋層表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010232560.1
• 申請(qǐng)日: 2010-07-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102010670A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉玉嶺;孫鳴;項(xiàng)霞
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 天津晶嶺微電子材料有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C09G1/02
• 分類(lèi)號(hào): C09G1/02
• 代理公司: 天津市三利專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 12107
• 代理人: 肖莉麗

1.一種高濃度Ti阻擋層表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，其特征在于，包括下述步驟：

(1)使用電阻為18MΩ以上的超純水對(duì)透明密閉反應(yīng)釜及進(jìn)料管道進(jìn)行清洗，使清洗后廢液的電阻不低于16MΩ；

(2)對(duì)透明密閉反應(yīng)釜抽真空，將堿性pH值調(diào)節(jié)劑在負(fù)壓的作用下通過(guò)步驟(1)清洗后的進(jìn)料管道吸入到步驟(1)已清洗過(guò)的透明密閉反應(yīng)釜中，并使透明密閉反應(yīng)釜內(nèi)呈負(fù)壓完全渦流狀態(tài)，形成完全渦流攪拌；

(3)邊完全渦流攪拌邊將非離子表面活性劑在負(fù)壓的作用下通過(guò)步驟(1)清洗后的進(jìn)料管道吸入到步驟(2)得到的溶液中，保持完全渦流攪拌狀態(tài)；

(4)邊完全渦流攪拌邊將FA/OII型螯合劑在負(fù)壓的作用下通過(guò)步驟(1)清洗后的進(jìn)料管道吸入到步驟(3)的溶液中；

(5)邊完全渦流攪拌邊將SiO₂的質(zhì)量百分比濃度為30～50％、粒徑為15～50nm的硅溶膠在負(fù)壓的作用下通過(guò)步驟(1)清洗后的進(jìn)料管道吸入到步驟(4)得到的溶液中，完全渦流攪拌均勻得到pH值為9-11的拋光液，

所述透明密閉反應(yīng)釜的材料為聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂中的任一種；

得到的拋光液中，按重量百分比由下述組分組成：SiO₂的質(zhì)量百分比濃度為30～50％、粒徑為15～25nm的硅溶膠94～99.5％，非離子表面活性劑0.2～2％，F(xiàn)A/OII型螯合劑0.2～2％，堿性pH值調(diào)節(jié)劑為0.1～2％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ti阻擋層表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，其特征在于，所述非離子表面活性劑為FA/O表面活性劑、O_π-10、O-20、O_π-7、JFC中的任一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ti阻擋層表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，其特征在于，所述堿性pH值調(diào)節(jié)劑為有機(jī)胺堿。