[發明專利]保護膜

有效

• 申請號: 201010231333.7
• 申請日: 2010-07-20
• 公開（公告）號: CN102337087A
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發明（設計）人: 麥建進;黃季仁;王韡閶;林升勛;吳嘉哲
• 申請（專利權）人: 麥建進;鴻威光電股份有限公司
• 主分類號: C09J7/02
• 分類號: C09J7/02;C09J131/04;C09J123/00
• 代理公司: 北京申翔知識產權代理有限公司 11214
• 代理人: 周春發;艾晶

1.一種保護膜，其特征在于，至少包括有：

一基材層，為兩種以上的聚烯類高分子材料所組成，該聚烯類高分子材料的分子量介于1000～100000之間，其比例范圍則介于1∶1～1∶100之間，該基材層包括有一離型層及一中間層；以及

一黏著層，該黏著層的黏著力對25℃室溫的PMMA導光板表面的黏著拉力為0.1～10g/25mm，對50℃溫度的PMMA導光板表面黏著力為20～150g/25mm。

2.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該基材層的厚度范圍為97μm～3μm。

3.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該中間層與離型層的厚度比例介于1∶1～1∶100之間。

4.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該黏著層的材料為醋酸聚乙烯，且該醋酸聚乙烯的分子量介于10000～120000之間，而該醋酸含量于醋酸聚乙烯內的含量比例介于5％～30％之間。

5.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該保護膜的整體厚度范圍為30μm～100μm。

6.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該黏著層的厚度范圍為3μm～97μm。

7.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該保護膜的光學霧度值(Haze，％)介于5％～60％之間。

8.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該離型層、中間層及黏著層各層的厚度均不超過另兩層厚度結構的總和。

9.如權利要求1所述的保護膜，其特征在于，該基材層表面鉛筆硬度范圍為H～3H。

10.一種高溫成型用保護膜，其特征在于，至少包括有：

一基材層，以聚烯類材料當主體，控制保護膜的延伸率在100～900％，拉伸強度在7～35MPa、熔點落在100～200℃；

一黏著層，為聚烯類材料所成，其熔點落在60～160℃；

其中，該保護膜以共押出型方式成型，且其成型的冷卻溫度控制在0～40℃之間，藉此可使保護膜黏著力受到控制，以得到不同程度的黏著力。

11.如權利要求10所述的保護膜，其特征在于，保護膜黏著層的黏著力的黏度范圍可達0.2～10g/25mm。

12.如權利要求10所述的保護膜，其特征在于，該基材層以聚烯類材料當主體，控制保護膜的延伸率在100～900％，拉伸強度在7～35MPa、熔點落在100～200℃。

13.如權利要求10所述的高溫成型用保護膜的制法，其特征在于，該保護膜受到高溫200℃的高壓鎖模力1000ton后，其黏著力保持在400％以內范圍之中。

14.如權利要求10所述的保護膜，其特征在于，該基材層表面鉛筆硬度范圍為H～3H。